薄膜材料製備原理技術及應用 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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唐偉忠 著

圖書標籤:

• 薄膜材料
• 材料科學
• 製備技術
• 應用
• 物理學
• 化學
• 工程
• 納米材料
• 錶麵工程
• 電子材料

齣版社： 冶金工業齣版社

ISBN：9787502430979

版次：2

商品編碼：10167595

包裝：平裝

開本：32開

齣版時間：2003-01-01

用紙：膠版紙

頁數：323

字數：282000

正文語種：中文

內容簡介

　　本書以薄膜材料為中心，係統地介紹瞭薄膜技術中常用的真空技術基礎知識，各種物理和化學氣相沉積技術和方法，薄膜材料的形核及生長理論，薄膜材料微觀結構的形成以及薄膜材料的厚度、微觀結構和成分的錶徵方法等。在此基礎上，本書還有選擇地討論瞭薄膜材料在力學、光電子學、磁學等領域的典型應用實例，其中涉及各種機械防護塗層、金剛石膜、光電子器件、集成光學器件、磁記錄及光記錄介質材料等技術。
　　本書可作為高等學校材料、物理及相關專業本科生、研究生及老師的教學參考書，也可供從事薄膜材料製備、研究的工程技術人員參考

目錄

1 薄膜製備的真空技術基礎
1.1 氣體分子運動論的基本概念
1.2 氣體的流動狀態和真空抽速
1.3 真空泵簡介
1.4 真空的測量
參考文獻
2 薄膜的物理氣相沉積（Ⅰ）——蒸發法
2.1 物質的熱蒸發
2.2 薄膜沉積的厚度均勻性和純度
2.3 真空蒸發裝置
參考文獻
3 薄膜的物理氣相沉積（Ⅱ）——濺射法及其他PVD方法
3.1 氣體放電現象與等離子體
3.2 物質的濺射現象
3.3 濺射沉積裝置
3.4 其他物理氣相沉積方法
參考文獻
4 薄膜的化學氣相沉積
4.1 化學氣相沉積反應的類型
4.2 化學氣相沉積過程的熱力學
4.3 化學氣相沉積過程的動力學
4.4 CVD薄膜沉積過程的數值模擬
4.5 化學氣相沉積裝置
4.6 等離子體輔助化學氣相沉積技術
參考文獻
5 薄膜的生長過程和薄膜結構
5.1 薄膜生長過程概述
5.2 新相的自發形核理論
5.3 薄膜的非自發形核理論
5.4 連續薄膜的形成
5.5 薄膜生長過程與薄膜結構
5.6 非晶薄膜
5.7 薄膜結構
5.8 薄膜的外延生長
5.9 薄膜中的應力和薄膜的附著力
參考文獻
6 薄膜材料的錶徵方法
7 薄膜材料及其應用

前言/序言

現代光學薄膜設計與測試技術 書籍信息： 書名： 現代光學薄膜設計與測試技術 作者： [此處可虛構作者姓名，例如：張宏, 王莉] 齣版社： [此處可虛構齣版社名稱，例如：科學技術齣版社] 齣版日期： [此處可虛構齣版年份，例如：2023年10月] --- 導言：光電技術革新驅動下的薄膜核心地位 在當代科學技術飛速發展的浪潮中，光學薄膜已成為連接基礎理論與尖端工程應用的關鍵橋梁。從我們日常接觸的智能手機屏幕鍍膜，到應用於深空探測、高精度激光武器係統中的復雜多層結構，光學薄膜技術的進步直接決定瞭光電器件的性能上限。然而，要真正實現高性能薄膜的設計、製造與精確錶徵，需要一套係統、深入且與時俱進的專業知識體係。 本書《現代光學薄膜設計與測試技術》正是在此背景下應運而生。它並非傳統意義上側重於材料物理或化學沉積機理的教科書，而是聚焦於如何利用先進的計算工具和精密的光學計量手段，實現特定功能光學薄膜的精確、可控、高效的工程化應用。全書圍繞“設計先行、測試驗證”的現代薄膜研發範式展開，旨在為光學工程師、材料科學傢、光電器件研發人員提供一套實用的、麵嚮工程應用的知識框架和技術指南。 第一部分：光學薄膜的電磁波理論基礎與設計範式（約400字） 本部分首先迴顧並深化瞭光波在多層介質界麵傳播的經典電磁理論，重點闡述瞭傳輸矩陣法（Transfer Matrix Method, TMM）在薄膜係統分析中的核心地位。不同於僅停留在理論推導，本章詳細解析瞭如何將TMM應用於分析不同入射角、不同偏振態下薄膜係統的反射率、透過率和吸收特性。 在此基礎上，本書引入瞭現代光學薄膜設計的核心思想——目標驅動的反嚮設計。我們深入探討瞭等效光學厚度的概念，並詳細介紹瞭如何利用等效材料法（Equivalent Layer Method）來簡化復雜多層結構的計算。針對特定光學功能，如高反射增益、寬帶吸收、特定波長濾波等，本書構建瞭一套係統的設計流程圖，並輔以豐富的實例說明不同層結構（如Quarter-Wave Stacks, Half-Wave Stacks）的適用範圍與局限性。此外，本部分還涵蓋瞭薄膜的非理想效應，包括層間缺陷、厚度誤差和材料色散對光學性能的敏感性分析，為後續的容差設計奠定基礎。 第二部分：高級薄膜設計方法與優化策略（約450字） 隨著功能集成度的提高，傳統手算或查錶式的設計方法已無法滿足需求。本書的第二部分是全書的技術核心，重點介紹數值優化算法在薄膜設計中的應用。 我們首先詳細介紹瞭自動優化算法的原理，包括梯度下降法、模擬退火法（Simulated Annealing）以及遺傳算法（Genetic Algorithm）在優化薄膜結構參數（層數、材料、厚度）方麵的具體實施步驟。書中提供瞭大量關於如何構建有效誤差函數（Merit Function）的實踐指導，解釋瞭如何平衡多個相互衝突的設計目標（如同時要求高透過率和陡峭的截止邊）。 針對超寬帶應用（如大麵積增透膜、天文濾光片），本書深入闡述瞭棱柱式設計（Porous/Rugate Filters）和梯度摺射率（GRIN）薄膜的設計原理。我們展示瞭如何運用反問題求解技術，從所需的理想光譜響應齣發，反推所需的摺射率分布函數。此外，為瞭應對高功率激光應用中的損傷閾值問題，本部分還引入瞭低應力和高均勻性設計準則，探討瞭如何通過結構設計優化薄膜的機械穩定性。讀者將學習到如何使用主流商業軟件（如TFCalc, Essential Macleod等）進行高效的設計迭代和敏感性分析。 第三部分：光學薄膜的精密計量與錶徵技術（約400字） 優秀的設計必須經過精確的驗證。第三部分專注於現代光學薄膜的現場和實驗室測試技術，強調非破壞性、高精度的測量方法。 我們詳細介紹瞭光譜光度法在薄膜厚度和摺射率測量中的應用。重點講解瞭等傾法和斜入射多點測量法在確定薄膜摺射率色散麯綫時的精確步驟和數據反演流程。對於特定應用，如偏振敏感器件，本書詳細對比瞭反射偏振儀（Spectroscopic Ellipsometry, SE）的原理、儀器構造及其在亞納米級厚度和界麵研究中的獨特優勢。 此外，本書對薄膜性能的物理驗證也進行瞭深入探討。這包括： 1. 激光損傷閾值（LIDT）測試技術：介紹IEEE標準下的測試流程、能量密度控製及損傷判定標準。 2. 光譜均勻性與掃描：探討如何使用大光斑或掃描係統確保大尺寸薄膜的性能一緻性。 3. 形貌與缺陷分析：介紹原子力顯微鏡（AFM）和掃描電子顯微鏡（SEM）在錶徵錶麵粗糙度和顆粒物方麵的應用，以及這些形貌特徵如何反饋到光學性能上。 第四部分：薄膜的工程化應用實例與挑戰（約300字） 最後一部分將理論與工程實踐相結閤，通過多個典型案例展示現代光學薄膜技術的工程化落地。 案例研究涵蓋瞭： 高功率激光係統中的抗反射膜與高反鏡：聚焦於激光損傷閾值、光束質量和鍍膜穩定性。 生物醫學成像中的多通道濾光片：討論如何實現窄帶、高阻隔和高透過率的復雜組閤。 環境監測中的遠程傳感薄膜：涉及對極端溫度和濕度環境下的薄膜可靠性設計。 本書還專門開闢章節討論瞭薄膜工程化麵臨的前沿挑戰，包括新型超材料（Metamaterials）薄膜的設計思路、原子層沉積（ALD）在精密光學領域的應用潛力，以及薄膜失效模式的預測與防護策略。 --- 總結： 《現代光學薄膜設計與測試技術》是一本麵嚮高階工程應用的技術手冊和進階教程。它彌補瞭傳統教材在先進計算方法和精密計量技術應用上的不足，確保讀者不僅理解“薄膜如何工作”，更能掌握“如何設計齣滿足未來需求的功能薄膜，並精確驗證其性能”。本書內容緊密結閤當前光學製造的前沿熱點，旨在培養新一代光學薄膜領域的復閤型高級人纔。

評分☆☆☆☆☆

《薄膜材料製備原理技術及應用》這本書，我得說，簡直是材料科學領域的一部裏程碑式的著作。從我一個搞研發的工程師的角度來看，這本書的深度和廣度都遠超我預期的想象。它不僅僅是簡單地羅列瞭各種薄膜的製備方法，更深入地剖析瞭這些方法背後的物理化學原理。比如，在談到PVD（物理氣相沉積）技術時，作者沒有停留在工藝參數的介紹，而是細緻地闡述瞭原子級彆的沉積過程、薄膜的成核機製以及形貌演變，這對於我們優化實驗參數、解決實際生産中遇到的薄膜缺陷問題，提供瞭極其寶貴的理論指導。再比如，對於ALD（原子層沉積）的介紹，其對自限製生長的機理分析得非常透徹，這對於我們理解和設計新型功能性多層薄膜結構至關重要。書中大量的圖錶和實驗數據支撐，使得復雜的理論變得直觀易懂，讓人仿佛置身於高精尖的實驗室中，親手操作著那些復雜的設備。尤其是對界麵工程的論述，這在當前微納器件發展中是核心議題，作者的見解獨到且極具前瞻性，著實讓我受益匪淺。這本書的專業性和實用性完美結閤，絕對是這個領域內不可多得的寶藏。

評分☆☆☆☆☆

坦白講，市麵上關於薄膜製備的書籍並不少見，但真正能做到深入淺齣、兼顧理論深度與工程實踐的精品卻屈指可數。這本《薄膜材料製備原理技術及應用》無疑是其中的佼佼者。它的細節處理非常到位，例如，對於真空係統維護、腔室汙染控製這些看似“軟性”但實則決定成敗的工程細節，書中也有獨到的見解和操作規範的描述，這對於初入實驗室的年輕人來說，是無價的經驗傳承。我尤其欣賞它對“失敗案例分析”的處理方式，沒有迴避技術難點和常見的陷阱，而是將其作為教學的一部分，這種坦誠的態度極大地增強瞭讀者的信心。這本書的價值在於，它提供瞭一個穩定可靠的知識錨點，無論行業技術如何迭代，這些底層原理和核心技術始終是驅動創新的基石。對於任何希望在薄膜領域有所建樹的人來說，它都應該被置於案頭，隨時翻閱，常讀常新。

評分☆☆☆☆☆

這本書的裝幀和排版設計，也體現齣齣版方對專業讀者的尊重。紙張的質量很好，長時間閱讀下來眼睛也不會感到疲勞，這一點對於需要反復研讀的學術著作來說至關重要。內容組織上，它遵循瞭從基礎理論到前沿應用的邏輯遞進，結構清晰，邏輯嚴密。我個人最喜歡的部分是關於“原位錶徵技術”的應用實例。薄膜生長過程的動態變化是理解其微觀結構演變的關鍵，而書中詳細介紹瞭如何利用同步輻射、中子散射等先進手段實時監測薄膜的生長情況，這些前沿技術的結閤應用，極大地拓寬瞭我的科研視野。它不僅僅是一本關於“如何做”的書，更是一本關於“如何思考”的書。它促使讀者去思考為什麼會是這種結構，而不是另一種結構，這種對本質的追問，纔是科學研究的精髓所在。對於準備攻讀相關專業碩博的學生而言，這本書無疑是奠定紮實理論基礎的不二之選，它提供的知識體係足夠堅固，可以支撐未來多年的研究工作。

評分☆☆☆☆☆

從一個跨學科研究人員的角度來看，《薄膜材料製備原理技術及應用》的跨界整閤能力令人印象深刻。它成功地將材料科學、物理學、化學工程甚至一些光學、電學特性分析巧妙地融閤在一起。比如，在討論介電薄膜時，它不僅講瞭如何沉積齣高純度的氧化鉿薄膜，還深入探討瞭其在鐵電和高K介質器件中的應用機理，以及如何通過摻雜來調控其電子結構和漏電流。這種係統性的知識覆蓋，使得非本專業的讀者也能快速入門並掌握核心概念。此外，書中對“綠色、低能耗”製備技術（如溶液法、軟化學法）的探討也緊跟時代步伐，顯示瞭作者對可持續發展理念的重視。在當前追求高效能、低成本製造的大背景下，這些內容極具現實指導意義。我感覺，讀完這本書，我不僅掌握瞭一套製備技術，更形成瞭一個全新的、更全麵的材料性能-製備工藝鏈條的認知框架。

評分☆☆☆☆☆

說實話，我最初拿到這本《薄膜材料製備原理技術及應用》時，是抱著“希望它能幫我解決手頭一個棘手的氧化物薄膜生長問題”的心態。然而，它帶給我的驚喜遠遠不止於此。這本書的敘述風格非常引人入勝，它沒有采用那種枯燥的教科書式的語言，而是更像是一位經驗豐富的前輩在耐心地傳授他畢生的心得。書中對於不同材料體係（無論是金屬、半導體還是陶瓷薄膜）的製備特點進行瞭細緻的對比分析，這種宏觀的視角幫助我跳齣瞭單一工藝的思維定勢。我特彆欣賞它在討論“缺陷控製”這一章節時的嚴謹態度。缺陷是薄膜性能的頭號殺手，而這本書詳盡地列舉瞭熱力學、動力學因素如何導緻不同類型的缺陷産生，並給齣瞭針對性的修正策略。這對我後續進行材料篩選和工藝窗口探索起到瞭決定性的作用。閱讀過程中，我常常需要停下來，對照我自己的實驗記錄本進行反思和比對，那種豁然開朗的感覺，是其他很多教材無法給予的。這是一部真正能夠提升從業者洞察力的工具書。

評分☆☆☆☆☆

物流很快，贊！以後接著買～

評分☆☆☆☆☆

送貨速度很快

評分☆☆☆☆☆

大學時用的就是這本書，敘述簡單明瞭，實用。

評分☆☆☆☆☆

挺好挺好挺好挺好挺好

評分☆☆☆☆☆

挺好挺好挺好挺好挺好

評分☆☆☆☆☆

不錯的東西，下次還來買

評分☆☆☆☆☆

題目不具體，買錯瞭，對我沒用。，而且內容過於簡單

評分☆☆☆☆☆

還行 跟學校買的正版一樣

評分☆☆☆☆☆

好書，本有一本，太舊瞭，重新買瞭一本。好書。