齣版社： 冶金工業齣版社
ISBN：9787502430979
版次：2
商品編碼：10167595
包裝：平裝
開本：32開
齣版時間：2003-01-01
用紙：膠版紙
頁數：323
字數：282000
正文語種：中文
具體描述
內容簡介
本書以薄膜材料為中心，係統地介紹瞭薄膜技術中常用的真空技術基礎知識，各種物理和化學氣相沉積技術和方法，薄膜材料的形核及生長理論，薄膜材料微觀結構的形成以及薄膜材料的厚度、微觀結構和成分的錶徵方法等。在此基礎上，本書還有選擇地討論瞭薄膜材料在力學、光電子學、磁學等領域的典型應用實例，其中涉及各種機械防護塗層、金剛石膜、光電子器件、集成光學器件、磁記錄及光記錄介質材料等技術。本書可作為高等學校材料、物理及相關專業本科生、研究生及老師的教學參考書，也可供從事薄膜材料製備、研究的工程技術人員參考
目錄
1 薄膜製備的真空技術基礎1.1 氣體分子運動論的基本概念
1.2 氣體的流動狀態和真空抽速
1.3 真空泵簡介
1.4 真空的測量
參考文獻
2 薄膜的物理氣相沉積（Ⅰ）——蒸發法
2.1 物質的熱蒸發
2.2 薄膜沉積的厚度均勻性和純度
2.3 真空蒸發裝置
參考文獻
3 薄膜的物理氣相沉積（Ⅱ）——濺射法及其他PVD方法
3.1 氣體放電現象與等離子體
3.2 物質的濺射現象
3.3 濺射沉積裝置
3.4 其他物理氣相沉積方法
參考文獻
4 薄膜的化學氣相沉積
4.1 化學氣相沉積反應的類型
4.2 化學氣相沉積過程的熱力學
4.3 化學氣相沉積過程的動力學
4.4 CVD薄膜沉積過程的數值模擬
4.5 化學氣相沉積裝置
4.6 等離子體輔助化學氣相沉積技術
參考文獻
5 薄膜的生長過程和薄膜結構
5.1 薄膜生長過程概述
5.2 新相的自發形核理論
5.3 薄膜的非自發形核理論
5.4 連續薄膜的形成
5.5 薄膜生長過程與薄膜結構
5.6 非晶薄膜
5.7 薄膜結構
5.8 薄膜的外延生長
5.9 薄膜中的應力和薄膜的附著力
參考文獻
6 薄膜材料的錶徵方法
7 薄膜材料及其應用
前言/序言
用戶評價
評分
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