出版社： 北京大学出版社
ISBN：9787301241097
版次：2
商品编码：11466314
包装：平装
丛书名： 21世纪微电子学专业规划教材
开本：16开
出版时间：2014-05-01
用纸：胶版纸
页数：408
具体描述
编辑推荐
《硅集成电路工艺基础（第二版）》非常值得推荐。内容简介
本书是《硅集成电路工艺基础》的第二版教材，作者在第一版的基础上系统的讲述了硅集成电路制造的基础工艺，加深了工艺物理基础和基本原理的介绍。增加了工艺集成例子的介绍。作者简介
关旭东，北京大学信息学院微电子系 职称：教授 研究方向：硅集成电路的设计和规划 主要作品：硅集成电路工艺基础。目录
第一章 硅晶体和非晶体第二章 氧化
第三章 扩散
第四章 离子注入
第五章 物理气相淀积
第六章 化学气相淀积
第七章 外延
第八章 光刻工艺
第九章 金属化与多层互联
第十章 工艺集成
第十一章 薄膜晶体管制造工艺
前言/序言
用户评价
评分
还不错
评分IC/MEMS入门教材，很不错的书
评分很好
评分就是以前用的旧版本更新了，来捧个场。
评分挺好
评分很好
评分挺好的。挺好的。挺好的。
评分强烈推荐
评分很不错很喜欢！好书值得我认真学习
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