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硅技术的发展和未来P 希弗特E 克瑞梅尔 (法)希弗特,(德)克瑞梅尔著,屠海令 9787

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法希弗特，德克瑞梅尔著，屠海令 著

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发表于2024-11-27

图书介绍

店铺： 天乐图书专营店
出版社： 冶金工业出版社
ISBN：9787502445362
商品编码：29244774455
包装：平装
出版时间：2009-02-01


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图书描述

基本信息

书名：硅技术的发展和未来P 希弗特E 克瑞梅尔

定价：50.00元

作者：(法)希弗特,(德)克瑞梅尔著,屠海令

出版社：冶金工业出版社

出版日期：2009-02-01

ISBN：9787502445362

字数：

页码：

版次：1

装帧：平装

开本：16开

商品重量：0.4kg

编辑推荐

内容提要

本书涵盖了半导体硅及硅基材料、多晶硅和光伏技术、硅外延和薄膜、硅掺杂、器件、化合物半导体、品格缺陷、杂质影响等多方面的内容，并涉及量子计算机、碳纳米管在微电子中的应用、情境智能系统、大脑半导体等诸多新概念；系统总结了世界半导体硅材料的发展历史、研究现状，并指出了今后的发展方向。其内容广泛，数据详实，可作为高等院校、科研院所和相关单位从事半导体材料学习、科研和开发人员的参考用书。

目录

作者介绍

文摘

序言


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