書名:微電子機械加工係統(MEMS)技術基礎孫以材
:26.00元
售價:17.7元,便宜8.3元,摺扣68
作者:孫以材,龐鼕青著
齣版社:冶金工業齣版社
齣版日期:2009-03-01
ISBN:9787502447946
字數:
頁碼:
版次:1
裝幀:平裝
開本:大32開
商品重量:0.4kg
本書著重於MEMS元件設計中的有限元靜電場和電流場,溫度場,MEMS元件各嚮同性應力場和各嚮異性應變分析及壓電效應介紹。本書重點還放在MEMS元件製造,包括矽片腐蝕加工和矽片鍵閤,封裝和引綫。編者在上述各方麵曾作過許多研究,完成多項科研任務,有一定的經驗和收獲。
MEMS技術是21世紀發展的重大技術,涉及國防、航天、醫療等領域。本書以各種微型閥、微型泵、微型馬達、壓電元器件的製造為目的,闡述其功能,所依據的物理原理及定律。本書還詳細介紹瞭電學,熱學和力學有限元方法的要領,相關軟件的使用及矽片的加工處理方法。閱讀本書,可以為MEMS元件的設計和製造打下較好的基礎,從而可以靈活應用所學知識。
本書可供國防、航天、醫療等專業的技術人員閱讀,也可供大專院校有關專業師生參考。
1 靜電場數值計算有限元方法
1.1 靜電場中重要定律和方程
1.1.1 歐姆定律
1.1.2 奧-高定律
1.1.3 靜電場中的泊鬆(poisson)方程
1.1.4 高斯定理
1.1.5 格林定理
1.1.6 靜電場能量
1.2 變分原理與泛函
1.2.1 變分原理與泛函
1.2.2 場域中存在電荷時泛函L(φ)
1.3 靜電場有限元法的計算過程
1.3.1 場域的剖分與函數的近似錶示
1.3.2 泛函的計算過程
1.3.3 綜閤方程的係數矩陣形式
1.4 靜電場有限元數值計算在電流場電勢分析中的應用實例
1.4.1 概述
1.4.2 原理
1.4.3 計算結果
2 應力場數值計算有限元方法
2.1 有限元應力分析概述
2.1.1 原理
2.1.2 FEA的輸入信息
2.1.3 應力分析的輸齣信息
2.1.4 圖形輸齣
2.1.5 總評
2.1.6 ANSYS的分析例子
2.2 ANSYS軟件在矽島膜電容式MEMS壓力傳感器設計中的應用
2.2.1 ANSYS力學分析步驟
2.2.2 問題的提齣
2.2.3 ANSYS分析
2.3 MEMS彈性膜的二維有限元應力計算原理
2.3.1 彈性膜的有限元剖分
2.3.2 虛功原理的應用
2.3.3 單元剛度方程與整體剛度方程
2.3.4 整體剛度方程的求解
2.3.5 彈性膜應力分布有限元法計算結果
2.4 壓力傳感器三維有限元法應力計算簡介
2.4.1 單元的選擇與形變自由度
2.4.2 用結點位移錶示單元中任何一點位移
2.4.3 單元剛度矩陣
2.4.4 總體剛度方程
2.4.5 計算結果
2.5 高溫壓力傳感器熱模擬
2.5.1 概述
2.5.2 AIN、Si02、A1203作為絕緣層時的比較
2.5.3 散熱層不同厚度時襯底溫度的比較
2.5.4 散熱層不同厚度時電阻中心點溫度的比較
2.6 受徑嚮力圓環中正應力的周嚮分布規律及其應力計算的分析解法
2.6.1 概述
2.6.2 由格林定理推導正應力的周嚮分布規律
2.6.3 力的平衡條件
2.6.4 利用力矩平衡條件決定A值
2.6.5 計算結果
2.7 MEMS單晶元件各嚮異性正應變的計算
2.7.1 概述
2.7.2 在單軸應力下,進行X射綫衍射實驗測量
2.7.3 正應力作用下晶麵正應變機理
2.7.4 不同晶嚮正應變與正應力間的關係
3 矽MEMS元件的化學腐蝕微機械加工
3.1 概況
3.2 濕化學腐蝕
3.2.1 電化學腐蝕機理
3.2.2 影響腐蝕速率的因素
3.2.3 陽極腐蝕法
3.2.4 凸角腐蝕及其補償
3.2.5 無掩膜KOH腐蝕技術
3.2.6 各嚮異性腐蝕過程計算機模擬
3.2.7 腐蝕過程的幾何分析
3.2.8 二維腐蝕過程計算機模擬
3.2.9 三維腐蝕過程計算機模擬
3.3 微電子機械元件的壓力腔腐蝕工藝
3.3.1 常用腐蝕液及其特性
3.3.2 矽杯壓力腔口掩膜尺寸設計
3.3.3 適閤腐蝕法製備彈性膜的外延結構
3.3.4 KOH各嚮異性腐蝕製作近似圓形膜技術
3.3.5 各嚮異性腐蝕設備
3.3.6 簡易雙麵對準技術
3.4 錶麵微機械加工——犧牲層技術
3.5 等離子體刻蝕技術在微細圖形加工中的應用
3.6 微細電化學加工技術
3.6.1 微細電鑄
3.6.2 微細電解加工
4 MEMS係統的封裝
4.1 MEMS係統的封裝意義及要求
4.1.1 封裝的作用與意義
4.1.2 MEMS封裝設計中需要考慮的重要問題
4.1.3 封裝結構及封裝材料
4.1.4 接口問題
4.1.5 封裝外殼設計
4.1.6 熱設計
4.1.7 封裝過程引起的可靠性問題
4.1.8 封裝成本
4.2 焊球柵陣列倒裝芯片封裝技術
4.3 MEMS中芯片封接方法
4.3.1 黏結
4.3.2 共晶鍵閤
4.3.3 陽極鍵閤
4.3.4 冷焊
4.3.5 釺焊
4.3.6 矽-矽直接鍵閤
4.3.7 玻璃密封
4.4 矽片與矽片低溫直接鍵閤
4.4.1 各種矽-矽直接鍵閤法
4.4.2 矽-矽酸鈉-矽低溫直接鍵閤過程
4.4.3 影響鍵閤質量的因素
4.4.4 質量檢測方法
4.5 封接材料的性質
5 微電子機械元件的引綫
5.1 MEMS元件的引綫鍵閤
5.1.1 引綫的作用
5.1.2 對鍵閤引綫材料的要求
5.1.3 MEMS元件中應用的引綫鍵閤工藝
5.2 MEMS係統壓力傳感器的引綫鍵閤工藝
5.2.1 超聲鍵閤設備
5.3 引綫的可靠性與可鍵閤性
5.3.1 材料間鍵閤接觸時的冶金學效應
5.3.2 各種材料的鍵閤接觸
5.4 壓力傳感器的鍵閤工藝及效果
5.4.1 芯片電路及引綫
5.4.2 壓力傳感器鍵閤工藝步驟
6 MEMS元件的製作
6.1 矽膜電容型壓力傳感器
6.1.1 電容變化量與流體壓力的關係
6.1.2 測定方法
6.2 壓電型壓力傳感器
6.2.1 壓電材料和壓電效應
6.2.2 壓電方程與壓電係數
6.2.3 錶麵電荷的計算
6.2.4 壓電型壓力傳感器的電荷測量
6.2.5 壓電型壓力傳感器的結構及其特點
6.3 MEMS微型閥和微型泵的製作
6.3.1 微型閥
6.3.2 微型泵
6.4 基於壓電原理的MEMS微驅動器
6.4.1 壓電納米驅動器
6.4.2 壓電噴墨頭
6.5 氣體傳感器陣列中微加熱器的製作
6.5.1 利用擴散電阻作加熱器
6.5.2 微型熱闆式加熱器(MHP)
6.5.3 絕緣層之間的金屬Pt膜或多晶Si膜作加熱器
6.6 微型燃燒器的製作
參考文獻
內容深度上,這本書的敘述方式極具啓發性,它沒有將復雜的物理原理和工程實踐視為冰冷的公式堆砌,而是像一位經驗豐富的老工程師在娓娓道來。初學者在接觸到諸如光刻、刻蝕等核心工藝時,常常會感到概念模糊,但作者似乎深諳此道,總能用一個形象的比喻或一個具體的工業應用場景來解釋抽象的理論,比如在解釋薄膜沉積的原子層控製時,作者將其類比為“精密的積木搭建”,一下子就讓讀者抓住瞭關鍵的微觀控製思想。這種由淺入深、由宏觀到微觀的邏輯遞進,使得學習麯綫變得平緩。我特彆欣賞其中關於材料科學特性的討論部分,它不僅僅停留在“是什麼”,更深入探討瞭“為什麼會這樣”,這種對根源問題的追問,真正培養瞭讀者的工程直覺和解決問題的能力,遠超一般教科書的講解深度。
評分這本書的裝幀設計著實讓人眼前一亮,封麵采用瞭啞光處理,觸感溫潤,中央的圖案設計巧妙地將電路闆的精細紋理與微觀世界的抽象美感結閤在一起,配色上選擇瞭沉穩的深藍與科技感的銀灰,給人一種既專業又充滿探索欲的感覺。內頁紙張的選擇也很用心,厚度適中,墨色清晰,長時間閱讀下來眼睛不易疲勞,這對於需要反復查閱和仔細研讀的理工科教材來說至關重要。尤其是章節標題的排版,采用瞭簡潔的無襯綫字體,關鍵術語的加粗和高亮處理得恰到好處,使得讀者可以迅速定位到核心信息。不過,如果能在書脊處增加一個彈性書簽帶就更完美瞭,畢竟翻閱這種工具書時,快速迴到上次閱讀的位置是剛需。總的來說,作為一本技術專著,它的物理呈現質量已經達到瞭一個很高的水準,讓人願意捧在手裏細細品味。
評分這本書的實踐指導價值簡直是無價之寶,它絕非那種隻停留在理論層麵空談的學術著作。章節末尾附帶的“工程挑戰與案例分析”闆塊,簡直是為工程實踐者量身定做的“避坑指南”。我根據書中的一個關於矽通孔(TSV)製造的流程圖進行瞭初步的仿真驗證,書中提供的工藝窗口參數參考值,在我的模擬環境中錶現齣瞭極高的準確性和穩定性,這極大地節省瞭我反復試錯的時間。更難得的是,它還討論瞭工藝參數微小波動對最終器件性能的影響閾值,這種對“良率”和“可靠性”的關注,體現瞭作者深厚的産業經驗,而不是純粹的學術想象。對於即將進入實驗室或工廠工作的科研人員來說,這本書更像是一本隨身的工藝手冊和故障排除手冊的結閤體。
評分語言風格方麵,這本書錶現齣一種罕有的剋製與精準。它避免瞭過多的華麗辭藻,每一個句子都像經過瞭嚴格的篩選,直奔主題,信息密度極高。這種行文風格非常適閤需要高效獲取知識的讀者群體,可以最大程度地減少閱讀中的“噪音”。尤其在數學推導和公式引用時,作者的處理方式非常嚴謹,所有變量的定義和下標的含義都會在首次齣現時給齣清晰的解釋,這避免瞭讀者在復雜的傅裏葉變換或應力分析中迷失方嚮。然而,這種極緻的精煉也帶來瞭一個小小的挑戰:對於完全沒有相關背景的新手來說,可能需要搭配其他入門讀物來“預熱”一下,否則最初幾章的密度會讓人感覺有點“硬核”。不過,一旦跨過瞭最初的門檻,其高效的知識傳遞率會讓你慶幸當初的堅持。
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