發表於2024-11-24
基本信息
書名:半導體技術基礎(杜中一)
定價:25.00元
作者:杜中一
齣版社:化學工業齣版社
齣版日期:2011-01-01
ISBN:9787122099259
字數:
頁碼:
版次:1
裝幀:平裝
開本:16開
商品重量:0.440kg
編輯推薦
內容提要
本書針對高職教學及學生的特點,根據微電子、電子製造、光電子以及光伏等專業人纔培養方案的需要,係統地介紹瞭半導體技術相關的基礎知識。本書主要包括半導體物理基礎、矽半導體材料基礎、化閤物半導體材料基礎、PN結、雙極型晶體管、MOS場效應晶體管、其他常用半導體器件、半導體工藝化學、半導體集成電路設計原理、半導體集成電路設計方法與製造工藝等內容。
本書“以應用為目的,以實用為主,理論以必需、夠用為度”作為編寫原則,突齣理論的實用性,語言通俗易懂,內容全麵,重點突齣,層次清楚,結構新穎,實用性強。
本書可作為微電子、電子製造、光電子以及光伏等相關專業的高職高專學生的教材或學習參考用書。
目錄
章 半導體技術概述
11 半導體技術
111 半導體集成電路發展史
112 半導體技術的發展趨勢
12 半導體與電子製造
121 電子製造基本概念
122 電子製造業的技術核心
習題
第2章 半導體物理基礎
21半導體能帶
211 電子的共有化
212 能帶
213 雜質能級
22 半導體的載流子運動
221 載流子濃度與費米能級
222 載流子的運動
習題
第3章 矽半導體材料基礎
31 半導體材料概述
311 半導體材料的發展
312 半導體材料的分類
32 矽材料的主要性質
321 矽材料的化學性質
322 矽材料的晶體結構
323 矽材料的電學性質
324 矽材料的熱學性質
325 矽材料的機械性質
33 矽單晶的製備技術
331 高純矽的製備
332 矽的提純技術
333 矽的晶體生長
334 晶體中雜質與缺陷
34 集成電路矽襯底加工技術
341 矽單晶拋光片的製備
342 矽單晶拋光片的質量檢測
35 矽的外延生長技術
351 外延生長概述
352 矽氣相外延生長技術
習題
……
第4章 化閤物半導體材料基礎
第5章 PN結
第6章 雙極型晶體管
第7章 MOS場效應晶體管
第8章 其他常用半導體器件
第9章 半導體工藝化學基礎
0章 半導體集成電路設計原理
1章 半導體集成電路設計方法與製造工藝
參考文獻
作者介紹
文摘
序言
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