過電應力(EOS)器件、電路與係統 9787111523185

過電應力(EOS)器件、電路與係統 9787111523185 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

史蒂文 H.沃爾德曼 著
圖書標籤:
  • 電力電子
  • 過電應力
  • EOS
  • 器件
  • 電路
  • 係統
  • 可靠性
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  • 半導體
  • 電力係統
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齣版社: 機械工業齣版社
ISBN:9787111523185
商品編碼:29658070305
包裝:平裝
齣版時間:2016-03-01

具體描述

基本信息

書名:過電應力(EOS)器件、電路與係統

定價:79.00元

作者:史蒂文 H.沃爾德曼

齣版社:機械工業齣版社

齣版日期:2016-03-01

ISBN:9787111523185

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版次:1

裝幀:平裝

開本:16開

商品重量:0.4kg

編輯推薦


由於工藝尺寸從微電子到納電子等比例縮小,過電應力(EOS)持續影響著半導體製造、半導體器件和係統。本書介紹瞭EOS基礎以及如何減緩EOS失效。本書提供EOS現象、EOS成因、EOS源、EOS物理、EOS失效機製、EOS片上和係統設計等清晰圖片,也提齣關於製造工藝、片上集成和係統級EOS保護網絡中EOS源等富有啓發性的觀點,同時給齣特殊工藝、電路和芯片的實例。本書在內容上全麵覆蓋從片上設計與電子設計自動化到工廠級EOS項目管理的EOS生産製造問題。

內容提要


本書係統地介紹瞭過電應力(EOS)器件、電路與係統設計,並給齣瞭大量實例,將EOS理論工程化。主要內容有EOS基礎、EOS現象、EOS成因、EOS源、EOS物理及EOS失效機製,EOS電路與係統設計及EDA,半導體器件、電路與係統中的EOS失效及EOS片上與係統設計。本書是作者半導體器件可靠性係列書籍的延續。對於專業模擬集成電路及射頻集成電路設計工程師,以及係統ESD工程師具有較高的參考價值。隨著納米電子時代的到來,本書是一本重要的參考書,同時也是麵嚮現代技術問題有益的啓示。本書主要麵嚮需要學習和參考EOS相關設計的工程師,或需要學習EOS相關知識的微電子科學與工程和集成電路設計專業高年級本科生和研究生。

目錄


目錄

譯者序

作者簡介

原書前言

緻謝

章EOS基本原理1

1.1EOS1

1.1.1EOS成本2

1.1.2産品現場返迴——EOS百分比2

1.1.3産品現場返迴——無缺陷與EOS3

1.1.4産品失效——集成電路的失效3

1.1.5EOS事件的分類3

1.1.6過電流5

1.1.7過電壓5

1.1.8過電功率5

1.2EOS解密6

1.2.1EOS事件6

1.3EOS源7

1.3.1製造環境中的EOS源7

1.3.2生産環境中的EOS源8

1.4EOS的誤解8

1.5EOS源小化9

1.6EOS減緩9

1.7EOS損傷跡象10

1.7.1EOS損傷跡象——電氣特徵10

1.7.2EOS損傷跡象——可見特徵10

1.8EOS與ESD11

1.8.1大/小電流EOS與ESD事件比較12

1.8.2EOS與ESD的差異 12

1.8.3EOS與ESD的相同點14

1.8.4大/小電流EOS與ESD波形比較14

1.8.5EOS與ESD事件失效損傷比較14

1.9EMI16

1.10EMC16

1.11過熱應力17

1.11.1EOS與過熱應力17

1.11.2溫度相關的EOS18

1.11.3EOS與熔融溫度18

1.12工藝等比例縮小的可靠性19

1.12.1工藝等比例縮小可靠性與浴盆麯綫可靠性19

1.12.2可縮放的可靠性設計框20

1.12.3可縮放的ESD設計框20

1.12.4加載電壓、觸發電壓和大電壓20

1.13安全工作區21

1.13.1電氣安全工作區22

1.13.2熱安全工作區22

1.13.3瞬態安全工作區22

1.14總結及綜述 23

參考文獻24

第2章EOS模型基本原理30

2.1熱時間常數30

2.1.1熱擴散時間30

2.1.2絕熱區時間常數31

2.1.3熱擴散區時間常數32

2.1.4穩態時間常數32

2.2脈衝時間常數32

2.2.1ESD HBM脈衝時間常數32

2.2.2ESD MM脈衝時間常數33

2.2.3ESD充電器件模型脈衝時間常數33

2.2.4ESD脈衝時間常數——傳輸綫脈衝33

2.2.5ESD脈衝時間常數——超快傳輸綫脈衝34

2.2.6IEC61000-4-2脈衝時間常數 34

2.2.7電纜放電事件脈衝時間常數 34

2.2.8IEC61000-4-5脈衝時間常數 35

2.3EOS數學方法 35

2.3.1EOS數學方法——格林函數35

2.3.2EOS數學方法——圖像法37

2.3.3EOS數學方法——熱擴散偏微分方程39

2.3.4EOS數學方法——帶變係數的熱擴散偏微分方程39

2.3.5EOS數學方法——Duhamel公式39

2.3.6EOS數學方法——熱傳導方程積分變換43

2.4球麵模型——Tasca推導46

2.4.1ESD時間區域的Tasca模型49

2.4.2EOS時間區域的Tasca模型49

2.4.3Vlasov-Sinkevitch模型50

2.5一維模型——Wunsch-Bell推導50

2.5.1Wunsch-Bell麯綫53

2.5.2ESD時間區域的Wunsch-Bell模型53

2.5.3EOS時間區域的Wunsch-Bell模型54

2.6Ash模型 54

2.7圓柱模型——Arkhipov-Astvatsaturyan-Godovsyn-Rudenko推導 55

2.8三維平行六麵模型——Dwyer-Franklin-Campbell推導55

2.8.1ESD時域的Dwyer-Franklin-Campbell模型60

2.8.2EOS時域的Dwyer-Franklin-Campbell模型60

2.9電阻模型——Smith-Littau推導61

2.10不穩定性63

2.10.1電氣不穩定性63

2.10.2電氣擊穿 64

2.10.3電氣不穩定性與驟迴64

2.10.4熱不穩定性65

2.11電遷移與EOS67

2.12總結及綜述 67

參考文獻68

第3章EOS、ESD、EMI、EMC及閂鎖70

3.1EOS源70

3.1.1EOS源——雷擊71

3.1.2EOS源——配電72

3.1.3EOS源——開關、繼電器和綫圈72

3.1.4EOS源——開關電源72

3.1.5EOS源——機械設備73

3.1.6EOS源——執行器 73

3.1.7EOS源——螺綫管 73

3.1.8EOS源——伺服電動機73

3.1.9EOS源——變頻驅動電動機75

3.1.10EOS源——電纜 75

3.2EOS失效機製76

3.2.1EOS失效機製:半導體工藝—應用適配76

3.2.2EOS失效機製:綁定綫失效76

3.2.3EOS失效機製:從PCB到芯片的失效77

3.2.4EOS失效機製:外接負載到芯片失效78

3.2.5EOS失效機製:反嚮插入失效78

3.3失效機製——閂鎖或EOS78

3.3.1閂鎖與EOS設計窗口79

3.4失效機製——充電闆模型或EOS79

3.5總結及綜述80

參考文獻80

第4章EOS失效分析83

4.1EOS失效分析83

4.1.1EOS失效分析——信息搜集與實情發現85

4.1.2EOS失效分析——失效分析報告及文檔86

4.1.3EOS失效分析——故障點定位 87

4.1.4EOS失效分析——根本原因分析87

4.1.5EOS或ESD失效分析——可視化失效分析的差異87

4.2EOS失效分析——選擇正確的工具91

4.2.1EOS失效分析——無損檢測方法92

4.2.2EOS失效分析——有損檢測方法93

4.2.3EOS失效分析——差分掃描量熱法93

4.2.4EOS失效分析——掃描電子顯微鏡/能量色散X射綫光譜儀94

4.2.5EOS失效分析——傅裏葉變換紅外光譜儀94

4.2.6EOS失效分析——離子色譜法 94

4.2.7EOS失效分析——光學顯微鏡 95

4.2.8EOS失效分析——掃描電子顯微鏡96

4.2.9EOS失效分析——透射電子顯微鏡96

4.2.10EOS失效分析——微光顯微鏡工具97

4.2.11EOS失效分析——電壓對比工具98

4.2.12EOS失效分析——紅外熱像儀98

4.2.13EOS失效分析——光緻電阻變化工具99

4.2.14EOS失效分析——紅外-光緻電阻變化工具99

4.2.15EOS失效分析——熱緻電壓變化工具100

4.2.16EOS失效分析——原子力顯微鏡工具101

4.2.17EOS失效分析——超導量子乾涉儀顯微鏡102

4.2.18EOS失效分析——皮秒級成像電流分析工具103

4.3總結及綜述105

參考文獻106

第5章EOS測試和仿真109

5.1ESD測試——器件級109

5.1.1ESD測試——人體模型109

5.1.2ESD測試——機器模型111

5.1.3ESD測試——帶電器件模型113

5.2傳輸綫脈衝測試114

5.2.1ESD測試——傳輸綫脈衝115

5.2.2ESD測試——超高速傳輸綫脈衝117

5.3ESD測試——係統級118

5.3.1ESD係統級測試——IEC 61000-4-2118

5.3.2ESD測試——人體金屬模型118

5.3.3ESD測試——充電闆模型119

5.3.4ESD測試——電纜放電事件120

5.4EOS測試122

5.4.1EOS測試——器件級122

5.4.2EOS測試——係統級123

5.5EOS測試——雷擊123

5.6EOS測試——IEC 61000-4-5124

5.7EOS測試——傳輸綫脈衝測試方法和EOS125

5.7.1EOS測試——長脈衝TLP測試方法125

5.7.2EOS測試——TLP方法、EOS和Wunsch–Bell模型125

5.7.3EOS測試——對於係統EOS評估的TLP方法的局限125

5.7.4EOS測試——電磁脈衝126

5.8EOS測試——直流和瞬態閂鎖126

5.9EOS測試——掃描方法127

5.9.1EOS測試——敏感度和脆弱度127

5.9.2EOS測試——靜電放電/電磁兼容性掃描127

5.9.3電磁乾擾輻射掃描法129

5.9.4射頻抗擾度掃描法130

5.9.5諧振掃描法131

5.9.6電流傳播掃描法131

5.10總結及綜述134

參考文獻134

第6章EOS魯棒性——半導體工藝139

6.1EOS和CMOS工藝139

6.1.1CMOS工藝——結構 139

6.1.2CMOS工藝——安全工作區140

6.1.3CMOS工藝——EOS和ESD失效機製141

6.1.4CMOS工藝——保護電路144

6.1.5CMOS工藝——絕緣體上矽148

6.1.6CMOS工藝——閂鎖149

6.2EOS、射頻CMOS以及雙極技術150

6.2.1RF CMOS和雙極技術——結構151

6.2.2RF CMOS和雙極技術——安全工作區151

6.2.3RF CMOS和雙極工藝——EOS和ESD失效機製151

6.2.4RF CMOS和雙極技術——保護電路155

6.3EOS和LDMOS電源技術156

6.3.1LDMOS工藝——結構156

6.3.2LDMOS晶體管——ESD電氣測量159

6.3.3LDMOS工藝——安全工作區160

6.3.4LDMOS工藝——失效機製160

6.3.5LDMOS工藝——保護電路162

6.3.6LDMOS工藝——閂鎖163

6.4總結和綜述164

參考文獻164

第7章EOS設計——芯片級設計和布圖規劃165

7.1EOS和ESD協同綜閤——如何進行EOS和ESD設計165

7.2産品定義流程和技術評估 166

7.2.1標準産品確定流程 166

7.2.2EOS産品設計流程和産品定義 167

7.3EOS産品定義流程——恒定可靠性等比例縮小168

7.4EOS産品定義流程——自底嚮上的設計 168

7.5EOS産品定義流程——自頂嚮下的設計 169

7.6片上EOS注意事項——焊盤和綁定綫設計170

7.7EOS外圍I/O布圖規劃 171

7.7.1EOS周邊I/O布圖規劃——拐角中VDD-VSS電源鉗位的布局171

7.7.2EOS周邊I/O布圖規劃——離散式電源鉗位的布局173

7.7.3EOS周邊I/O布圖規劃——多域半導體芯片173

7.8EOS芯片電網設計——符閤IEC規範電網和互連設計注意事項174

7.8.1IEC 61000-4-2電源網絡175

7.8.2ESD電源鉗位設計綜閤——IEC 61000-4-2相關的ESD電源鉗位176

7.9PCB設計177

7.9.1係統級電路闆設計——接地設計177

7.9.2係統卡插入式接觸 178

7.9.3元件和EOS保護器件布局178

7.10總結和綜述 179

參考文獻179

第8章EOS設計——芯片級電路設計181

8.1EOS保護器件 181

8.2EOS保護器件分類特性181

8.2.1EOS保護器件分類——電壓抑製器件182

8.2.2EOS保護器件——限流器件 182

8.3EOS保護器件——方嚮性184

8.3.1EOS保護器件——單嚮184

8.3.2EOS保護器件——雙嚮184

8.4EOS保護器件分類——I-V特性類型 185

8.4.1EOS保護器件分類——正電阻I-V特性類型185

8.4.2EOS保護器件分類——S形I-V特性類型 186

8.5EOS保護器件設計窗口187

8.5.1EOS保護器件與ESD器件設計窗口187

8.5.2EOS與ESD協同綜閤 188

8.5.3EOS啓動ESD電路 188

8.6EOS保護器件——電壓抑製器件的類型 188

8.6.1EOS保護器件——TVS器件189

8.6.2EOS保護器件——二極管189

8.6.3EOS保護器件——肖特基二極管189

8.6.4EOS保護器件——齊納二極管190

8.6.5EOS保護器件——晶閘管浪湧保護器件190

8.6.6EOS保護器件——金屬氧化物變阻器 191

8.6.7EOS保護器件——氣體放電管器件192

8.7EOS保護器件——限流器件類型 194

8.7.1EOS保護器件——限流器件——PTC器件194

8.7.2EOS保護器件——導電聚閤物器件 195

8.7.3EOS保護器件——限流器件——熔絲197

8.7.4EOS保護器件——限流器件——電子熔絲198

8.7.5EOS保護器件——限流器件——斷路器198

8.8EOS保護——使用瞬態電壓抑製器件和肖特基二極管跨接電路闆的電源和地200

8.9EOS和ESD協同綜閤網絡200

8.10電纜和PCB中的EOS協同綜閤201

8.11總結和綜述 202

參考文獻202

第9章EOS的預防和控製204

9.1控製EOS 204

9.1.1製造中的EOS控製 204

9.1.2生産中的EOS控製 204

9.1.3後端工藝中的EOS控製205

9.2EOS小化206

9.2.1EOS預防——製造區域操作 207

9.2.2EOS預防——生産區域操作 208

9.3EOS小化——設計過程中的預防措施209

9.4EOS預防——EOS方針和規則 209

9.5EOS預防——接地測試209

9.6EOS預防——互連210

9.7EOS預防——插入210

9.8EOS和EMI預防——PCB設計210

9.8.1EOS和EMI預防——PCB電源層和接地設計210

9.8.2EOS和EMI預防——PCB設計指南——器件挑選和布局211

9.8.3EOS和EMI預防——PCB設計準則——綫路布綫與平麵211

9.9EOS預防——主闆213

9.10EOS預防——闆上和片上設計方案213

9.10.1EOS預防——運算放大器213

9.10.2EOS預防——低壓差穩壓器214

9.10.3EOS預防——軟啓動的過電流和過電壓保護電路214

9.10.4EOS預防——電源EOC和EOV保護215

9.11高性能串行總綫和EOS217

9.11.1高性能串行總綫——FireWire和EOS218

9.11.2高性能串行總綫——PCI和EOS218

9.11.3高性能串行總綫——USB和EOS219

9.12總結和綜述219

參考文獻219

0章EOS設計——電子設計自動化223

10.1EOS和EDA 223

10.2EOS和ESD設計規則檢查223

10.2.1ESD設計規則檢查 223

10.2.2ESD版圖與原理圖驗證224

10.2.3ESD電氣規則檢查225

10.3EOS電氣設計自動化226

10.3.1EOS設計規則檢查226

10.3.2EOS版圖與原理圖對照驗證227

10.3.3EOS電氣規則檢查228

10.3.4EOS可編程電氣規則檢查229

10.4PCB設計檢查和驗證229

10.5EOS和閂鎖設計規則檢查231

10.5.1閂鎖設計規則檢查 231

10.5.2閂鎖電氣規則檢查 235

10.6總結和綜述238

參考文獻239

1章EOS項目管理242

11.1EOS審核和生産的控製242

11.2生産過程中的EOS控製243

11.3EOS和組裝廠糾正措施244

11.4EOS審核——從製造到組裝控製244

11.5EOS程序——周、月、季度到年度審核245

11.6EOS和ESD設計發布 245

11.6.1EOS設計發布過程246

11.6.2ESD詳盡手冊246

11.6.3EOS詳盡手冊248

11.6.4EOS檢查錶250

11.6.5EOS設計審查252

11.7EOS設計、測試和認證253

11.8總結和綜述253

參考文獻253

2章未來技術中的過電應力256

12.1未來工藝中的EOS影響256

12.2先進CMOS工藝中的EOS257

12.2.1FinFET技術中的EOS257

12.2.2EOS和電路設計258

12.32.5-D和3-D係統中的EOS意義258

12.3.12.5-D中的EOS意義259

12.3.2EOS和矽介質層 259

12.3.3EOS和矽通孔260

12.3.43-D係統的EOS意義262

12.4EOS和磁記錄263

12.4.1EOS和磁電阻263

12.4.2EOS和巨磁電阻265

12.4.3EOS和隧道磁電阻265

12.5EOS和微機265

12.5.1微機電器件265

12.5.2MEM器件中的ESD擔憂266

12.5.3微型電動機267

12.5.4微型電動機中的ESD擔憂267

12.6EOS和RF-MEMS269

12.7納米結構的EOS意義270

12.7.1EOS和相變存儲器270

12.7.2EOS和石墨烯272

12.7.3EOS和碳納米管272

12.8總結和綜述273

參考文獻274

附錄280

附錄A術語錶280

附錄B標準284


作者介紹


Steven H.Voldman博士由於在CMOS、SOI和SiGe工藝下的靜電放電(ESD)保護方麵所作齣的貢獻,而成為瞭ESD領域的首位IEEE Fellow。他於1979年在布法羅大學獲得工程學學士學位;並於1981年在麻省理工學院(MIT)獲得瞭電子工程方嚮的一個碩士學位;後來又在MIT獲得第二個電子工程學位(工程碩士學位);1986年他在IBM的駐地研究員計劃的支持下,從佛濛特大學獲得瞭工程物理學碩士學位,並於1991年從該校獲得電子工程博士學位。他作為IBM研發團隊的一員已經有25年的曆史,主要緻力於半導體器件物理、器件設計和可靠性(如軟失效率、熱電子、漏電機製、閂鎖、ESD和EOS)的研究工作。他在ESD和CMOS閂鎖領域獲得瞭245項美國。

文摘


序言



電子元器件的保護之道:從基礎原理到前沿應用 在日新月異的電子科技領域,對精密器件和復雜係統的保護,已成為確保産品可靠性、延長使用壽命的關鍵挑戰。尤其隨著電子設備集成度的不斷提升和工作頻率的飛速發展,各種潛在的電應力威脅也日益嚴峻,其中“過電應力”(Electrical Overstress, EOS)便是對電子産品設計、製造和使用過程中最具破壞性的因素之一。本書旨在係統性地剖析EOS的本質,深入探討其在器件、電路及係統層麵的影響,並提供一套全麵有效的防護策略。 第一部分:過電應力(EOS)的基礎理論與機理 本部分將帶領讀者從最基礎的層麵理解EOS。我們將首先闡述什麼是過電應力,它與我們熟知的瞬態電壓抑製(TVS)和靜電放電(ESD)等概念有何異同。EOS通常指的是持續性或脈衝性的過電流或過電壓,這些應力可能源於電源的不穩定、電路設計缺陷、外部乾擾,甚至是器件本身的特性。我們將深入分析EOS在半導體器件內部産生的物理過程,如載流子過載、熱擊穿、電遷移等,揭示EOS如何一步步摧毀微觀層麵的電子結構,進而導緻宏觀上的器件失效。 EOS的成因分析:我們將詳細梳理EOS産生的各種根源。這包括但不限於: 電源相關:電源供應器的波動、浪湧、紋紋(ripple)、欠壓或過壓保護機製的失效。 電路設計:不當的偏置、信號耦閤、接地設計不良、器件選型不匹配、濾波不足等。 外部環境:雷擊感應、電磁乾擾(EMI)、工業設備運行産生的電網擾動。 器件特性:器件內部的缺陷、老化、寄生參數的影響。 製造與測試:生産過程中的應力、不當的測試條件。 EOS的物理損傷機理:深入剖析EOS對半導體材料和器件結構造成的損害。我們將探討: 熱擊穿:過高的電流密度導緻局部溫度急劇升高,超過材料的熔點或分解溫度。 電遷移:在電流作用下,金屬原子從一個位置遷移到另一個位置,導緻導綫斷裂或短路。 柵氧化層擊穿:尤其對於MOSFET等器件,過高的柵極電壓或漏極電壓會導緻柵氧化層被擊穿,形成永久性損傷。 PN結損傷:正嚮過電流導緻PN結溫度過高,反嚮過電壓導緻雪崩擊穿或齊納擊穿,均可能造成永久性損傷。 其他效應:如陷阱輔助擊穿、隧道擊穿等。 EOS與ESD、TVS的辨析:清晰界定EOS、ESD(靜電放電)和TVS(瞬態電壓抑製)之間的區彆與聯係。ESD通常是極短時間、極高能量的瞬態放電,而EOS則可能涉及更長時間、更廣泛範圍的過應力。TVS是一種保護器件,常用於抑製ESD和某些瞬態過電壓,但其防護能力和適用範圍與EOS防護策略有所不同。 第二部分:EOS在器件層麵的影響與防護 在器件層麵,EOS的威脅尤為直接和關鍵。不同的半導體器件對EOS的耐受能力差異巨大,理解這些差異並采取針對性防護措施至關重要。 各類半導體器件的EOS敏感性分析: 晶體管:MOSFET、BJT等作為模擬和數字電路的核心,其柵極、漏極、源極都可能成為EOS的受損點。我們將分析不同工藝、不同結構的晶體管在EOS下的錶現。 二極管:肖特基二極管、整流二極管、穩壓二極管等,其耐受過流和過壓的能力直接影響整流、穩壓等功能。 集成電路(IC):復雜的IC內部集成瞭海量器件,EOS可能導緻部分或全部功能失效,甚至造成芯片的永久性損壞。我們將探討ASIC、FPGA、微處理器、模擬IC等不同類型IC的EOS脆弱性。 功率器件:MOSFET、IGBT、功率二極管等在電力電子應用中承受高電流和高電壓,對EOS的防護尤其重要。 被動元器件:電阻、電容、電感等雖然通常比半導體器件更耐受,但極端EOS條件下也可能發生過載、過熱甚至爆炸。 EOS在器件設計中的考量: 器件工藝優化:通過改進半導體材料、摻雜工藝、結構設計,提高器件的EOS耐受能力。 可靠性設計規則:在版圖設計和布綫時,考慮電流密度、熱管理、電壓分布等因素,避免EOS隱患。 安全工作區(SOA):深入理解不同功率器件的安全工作區,並在設計中嚴格遵守,防止超齣額定工作範圍。 器件級EOS防護技術: 限流電阻:在敏感電路中串聯適當阻值的電阻,限製瞬態過電流。 齊納二極管/TVS二極管:作為瞬態電壓鉗位器,在電壓超過閾值時導通,將電壓鉗位在安全範圍內。 箝位電路:設計專門的箝位電路,快速響應並抑製EOS脈衝。 過溫保護:集成溫度傳感器,在器件過熱時自動關斷或降低功率。 過流保護:設計過流檢測和保護電路,在電流超過安全值時觸發保護動作。 第三部分:EOS在電路與係統層麵的影響與防護 EOS的威脅並非孤立存在於單個器件,它會通過電路的連接和係統的交互,産生級聯效應,導緻更廣泛的係統性失效。 EOS在電路設計中的影響: 信號完整性:EOS可能導緻信號失真、誤觸發,影響電路的正常邏輯功能。 電源完整性:電源軌上的EOS事件可能影響整個供電網絡,導緻多個器件同時受損。 EMI/EMC問題:EOS引起的瞬態電流或電壓變化,本身也可能産生電磁輻射,加劇EMI/EMC問題。 接地與布綫:不閤理的接地設計和布綫方式,可能放大EOS的破壞範圍。 EOS在係統設計中的挑戰: 互連的脆弱性:係統中的所有器件和布綫都是相互連接的,一個環節的EOS問題可能迅速蔓延。 接口防護:外部接口(如USB、HDMI、電源接口)是EOS最常見的入口,需要重點防護。 熱管理:EOS引起的局部過熱,可能對周圍環境和相鄰器件造成熱應力,加速老化。 係統失效模式:分析EOS可能導緻的各種係統性失效模式,如功能喪失、性能下降、隨機故障、早期失效等。 電路與係統級EOS防護策略: 元器件選型:選擇具有更高EOS耐受能力的元器件,尤其是在關鍵路徑和易受攻擊的區域。 濾波與穩壓:設計有效的輸入/輸齣濾波和穩壓電路,淨化電源,抑製浪湧。 布局與布綫:閤理的PCB布局,優化信號路徑,考慮電源和地的去耦,減少寄生效應。 串並聯保護:在關鍵信號綫或電源綫上串聯限流元件,在易受攻擊節點並聯保護器件。 共模/差模抑製:設計共模扼流圈、差模濾波器,抑製外部引入的EOS。 瞬態電壓抑製器(TVS)陣列:在多引腳接口處使用TVS陣列,同時保護多個信號綫。 保險絲與自恢復保險絲(PPTC):提供過流保護,在EOS發生時斷開電路,避免進一步損害。 軟件與固件的協同防護:通過軟件設計,監測關鍵參數,實現過載保護和故障診斷。 接地係統的設計:建立可靠的接地係統,減少共模乾擾和EOS的傳播。 第四部分:EOS的檢測、測試與故障分析 準確地檢測、測試和分析EOS故障,是改進設計、提升産品可靠性的關鍵環節。 EOS的失效跡象:學習識彆EOS故障的典型特徵,如器件外觀燒蝕、鼓包,PCB燒黑,功能異常,間歇性故障等。 EOS的檢測方法: 在綫監測:實時監測電源電壓、電流、器件溫度等參數,異常時報警。 離綫檢測:利用示波器、邏輯分析儀、頻譜分析儀等工具,捕捉瞬態EOS事件。 EOS的測試技術: 加速壽命測試(ALT):模擬實際使用環境中的EOS應力,加速器件或係統的老化過程。 應力篩選(Burn-in):對産品進行預先的應力暴露,剔除早期失效的産品。 故障注入測試:主動嚮係統注入EOS脈衝,評估其防護效果和失效模式。 高低溫循環測試:結閤溫度變化,評估EOS在不同環境下的影響。 EOS故障分析(FA): 失效模式分析:通過顯微鏡、掃描電鏡(SEM)、能譜儀(EDS)等,分析失效器件的微觀損傷。 失效機理推斷:結閤失效跡象和材料分析結果,推斷EOS發生的具體機理。 根源分析:追溯EOS發生的根本原因,是設計缺陷、製造問題還是使用不當。 修復與改進:根據故障分析結果,提齣設計改進、工藝優化或使用建議。 第五部分:EOS在特定應用領域的挑戰與實踐 EOS的防護策略需要根據具體的應用場景進行調整和優化。 汽車電子:汽車環境復雜,電源波動頻繁,對EOS的防護要求極高。 工業控製:工業現場的強電磁乾擾和惡劣工作環境,使得EOS成為關鍵的可靠性問題。 通信設備:高速通信對信號完整性要求苛刻,EOS可能導緻通信中斷或數據錯誤。 消費電子:雖然對成本敏感,但EOS的防護對於提升用戶體驗和品牌信譽至關重要。 醫療器械:對安全性和可靠性要求極高,EOS失效可能導緻嚴重後果。 航空航天:極端的工作環境和對可靠性的極緻追求,使得EOS防護成為核心技術。 本書將結閤以上各部分內容,通過豐富的實例分析和案例研究,深入淺齣地講解EOS的方方麵麵。我們希望本書能夠為電子工程師、技術研究人員、産品設計師以及所有關注電子産品可靠性的專業人士,提供一套係統、全麵、實用的EOS防護知識體係,幫助他們更好地理解和應對EOS帶來的挑戰,設計齣更穩定、更可靠的電子器件、電路與係統。

用戶評價

評分

這本書的敘事風格非常獨特,它更像是一部技術曆史的編年史,而非一本傳統的教科書。它沒有直接給齣“怎麼做”的步驟,而是通過追溯關鍵技術和標準(如MIL-STD、IEC標準)的演變曆程,來闡釋為什麼我們現在的設計規範會是這個樣子。這種宏觀的視角讓我對整個電子係統環境適應性設計領域的哲學有瞭更深的理解。它引導讀者去思考“為什麼”某些看似不重要的細節(比如螺絲的扭矩、材料的介電常數)在極端環境下會成為決定性的因素。對於那些對行業標準製定背景感興趣,或者想從事更高級彆環境適應性研究的人來說,這本書提供瞭極佳的曆史縱深感和批判性思維的訓練。它拓寬瞭我的視野,讓我明白可靠性設計是一門深厚的、與時俱進的工程藝術,而非一堆僵化的規則集閤。

評分

這本關於電磁兼容性的書簡直是電路設計者的福音,從基礎的理論剖析到實際應用的案例分析,內容組織得井井有條,邏輯性極強。我尤其欣賞作者在闡述高頻噪聲抑製方法時,那種抽絲剝繭般的細緻,把復雜的電磁場耦閤原理用非常直觀的圖錶和公式推導齣來,即便是初次接觸這個領域的工程師也能迅速抓住核心。書中對各種濾波器的設計準則和選型建議提供瞭詳盡的指導,避免瞭許多人在實際工作中“拍腦袋”做決策的誤區。而且,它不僅僅停留在理論層麵,還深入探討瞭PCB布局、屏蔽技術和接地策略在ESD防護中的關鍵作用,這一點對於保證電子産品在惡劣環境下穩定運行至關重要。讀完之後,感覺自己對如何構建一個“抗乾擾”的係統有瞭全新的認識,那些過去睏擾我的信號完整性問題,現在似乎都有瞭清晰的解決方案路徑。對於希望係統提升自己EMC設計能力的專業人士來說,這本書無疑是一本值得反復研讀的案頭寶典。

評分

我一直以為電子係統可靠性研究都是晦澀難懂的“象牙塔”學問,直到我翻開這本側重於係統可靠性工程的著作。它並沒有故作高深地堆砌復雜的數學模型,而是非常接地氣地將失效分析和壽命預測與實際的工程實踐緊密結閤起來。作者對於不同環境應力——比如溫度循環、振動衝擊以及溫濕度交變等——如何加速元器件老化和係統故障的內在機製,進行瞭深入淺齣的闡述。我特彆喜歡其中關於“加速壽命試驗設計”的部分,它提供瞭一套標準化的流程和方法論,幫助我們能夠在有限的時間內,科學地評估産品的預期壽命。書中大量的實際故障案例分析,更是讓人印象深刻,每一個案例都像是教科書式的反麵教材,讓我們能提前規避那些代價高昂的設計陷阱。這本書的價值在於,它教會的不是如何“修補”已發生的故障,而是如何從設計源頭就構建起堅不可摧的可靠性壁壘。

評分

作為一名專注於電源電子模塊的研發人員,我發現這本書在探討功率半導體器件的熱管理和可靠性方麵,提供瞭非常前瞻性的視角。它不僅僅關注傳統的導熱路徑分析,更是深入探討瞭先進封裝技術(如SiC、GaN器件)在高功率密度應用中麵臨的獨特熱挑戰。書中對熱機械應力分析的章節,詳細論述瞭不同材料體係在溫度梯度下的膨脹差異如何導緻鍵閤綫疲勞甚至焊點失效,這對於設計壽命超過十年的工業級電源至關重要。作者在評估熱界麵材料(TIM)性能和壽命預測模型方麵的論述尤為精闢,提供瞭大量的實驗數據支持,使得我們可以基於科學依據來選擇最優的熱解決方案,而不是僅僅依賴供應商的宣傳。這本書成功地架起瞭從微觀材料特性到宏觀係統熱行為之間的橋梁,對於追求極緻性能和長期穩定性的電源工程師來說,是不可多得的參考資料。

評分

我必須說,這本書的價值在於它對“係統工程”方法的精闢總結,尤其是在處理跨學科的復雜故障時。它強調的不僅僅是單個器件的性能指標,而是將“應力-響應-失效”的鏈條拉通,從需求定義階段就開始嵌入魯棒性設計。書中關於“設計裕度管理”的章節尤其讓我受益匪淺,它清晰地界定瞭在麵對不確定性輸入時,如何量化地分配和控製係統的安全邊際,避免瞭過度設計導緻的成本失控,也避免瞭欠設計引發的提前失效。作者對於不同失效模式之間的耦閤與連鎖反應的描述,極具啓發性,讓人意識到在一個復雜係統中,解決A問題的措施很可能意外地加劇瞭B問題的風險。這本書是提升整體設計思維框架的絕佳讀物,它教會瞭我如何像一個係統架構師一樣去思考,而不是僅僅停留在元件工程師的層麵。

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