真空科学技术丛书：真空镀膜 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

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李云奇 著

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• 真空技术
• 真空镀膜
• 材料科学
• 表面工程
• 薄膜技术
• 物理气相沉积
• PVD
• 镀膜工艺
• 真空设备
• 科学技术

出版社： 化学工业出版社

ISBN：9787122127808

版次：1

商品编码：11064818

包装：平装

丛书名： 真空科学技术丛书

开本：16开

出版时间：2012-08-01

用纸：胶版纸

页数：310

正文语种：中文

内容简介

　　 《真空科学技术丛书：真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有专业性、实用性和通用性。
　　 《真空科学技术丛书：真空镀膜》可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。

目录

第1章真空镀膜概论
1.1概述
1.2影响固体表面结构、形貌及其性能的因素
1.2.1原子和分子构成固体物质
1.2.2多晶体物质结构
1.2.3材料受到的各种应力负荷
1.2.4材料加工所带来的缺陷
1.2.5基片表面涂敷硬质薄膜的必要性
1.3真空镀膜及其工艺特点和应赋予涂层的功能
1.4薄膜的特征
1.4.1薄膜的结构特征
1.4.2金属薄膜的电导特征
1.4.3金属薄膜电阻温度系数特征
1.4.4薄膜的密度特征
1.4.5薄膜的时效变化特征
1.5薄膜的应用
1.5.1电子工业用薄膜
1.5.2光学工业中应用的各种光学薄膜
1.5.3机械、化工、石油等工业中应用的硬质膜、耐蚀膜和润滑膜
1.5.4有机分子薄膜
1.5.5民用及食品工业中的装饰膜和包装膜
1.6真空镀膜的发展历程及最新进展
参考文献
第2章真空镀膜技术基础
2.1真空镀膜物理基础
2.1.1真空及真空状态的表征和测量
2.1.2气体的基本性质
2.1.3气体的流动与流导
2.1.4气体分子与固体表面的相互作用
2.2真空镀膜低温等离子体基础
2.2.1等离子体及其分类与获得
2.2.2低气压下气体的放电
2.2.3低气压下气体放电的类型
2.2.4低气压下冷阴极气体辉光放电
2.2.5低气压非自持热阴极弧光放电
2.2.6低气压自持冷阴极弧光放电
2.2.7磁控辉光放电
2.2.8空心冷阴极辉光放电
2.2.9高频放电
2.2.10等离子体宏观中性特征及其中性空间强度的判别
2.3薄膜的生长与膜结构
2.3.1膜的生长过程及影响膜生长的因素
2.3.2薄膜的结构及其结构缺陷
2.4薄膜的性质及其影响因素
2.4.1薄膜的力学性质及其影响因素
2.4.2薄膜的电学性质
2.4.3薄膜的光学性质及其影响膜折射率的因素
2.4.4薄膜的磁学性质
参考文献
第3章蒸发源与溅射靶
3.1蒸发源
3.1.1蒸发源及其设计与使用中应考虑的问题
3.1.2电阻加热式蒸发源
3.1.3电子束加热式蒸发源
3.1.4空心热阴极等离子体电子束蒸发源
3.1.5感应加热式蒸发源
3.1.6激光加热式蒸发源
3.1.7辐射加热式蒸发源
3.1.8蒸发源材料
3.1.9蒸发源的发射特性及膜层的厚度分布
3.2溅射靶
3.2.1溅射靶的结构及其设计要求
3.2.2溅射靶材
参考文献
第4章真空蒸发镀膜
4.1真空蒸发镀膜技术
4.1.1真空蒸发镀膜原理及蒸镀条件
4.1.2薄膜材料
4.1.3合金膜的蒸镀
4.1.4化合物膜的蒸镀
4.1.5影响真空蒸镀性能的因素
4.2分子束外延技术
4.2.1分子束外延生长的基本原理与过程
4.2.2分子束外延生长的条件、制备方法与特点
4.2.3分子束外延生长参数选择
4.2.4影响分子束外延的因素
4.2.5分子束外延装置
4.3真空蒸发镀膜设备
4.3.1真空蒸发镀膜机的类型及其结构
4.3.2真空蒸发镀膜机中的主要构件
4.4真空蒸发涂层的制备实例
4.4.1真空蒸镀铝涂层
4.4.2真空蒸镀Cd(Se，S)涂层
4.4.3真空蒸镀ZrO2涂层
4.4.4分子束外延生长金单晶涂层
参考文献
第5章真空溅射镀膜
5.1真空溅射镀膜的复兴与发展
5.2真空溅射镀膜技术
5.2.1真空溅射镀膜的机理分析及其溅射过程
5.2.2靶材粒子向基体上的迁移过程
5.2.3靶材粒子在基体上的成膜过程
5.2.4溅射薄膜的特点及溅射方式
5.2.5直流溅射镀膜
5.2.6磁控溅射镀膜
5.2.7射频溅射镀膜
5.2.8反应溅射镀膜
5.2.9中频溅射与脉冲溅射镀膜
5.2.10对向靶等离子体溅射镀膜
5.2.11偏压溅射镀膜
5.3真空溅射镀膜设备
5.3.1间歇式真空溅射镀膜机
5.3.2半连续磁控溅射镀膜机
5.3.3大面积连续式磁控溅射镀膜设备
参考文献
第6章真空离子镀膜
6.1真空离子镀膜及其分类
6.2离子镀膜原理及其成膜条件
6.3离子镀膜过程中等离子体的作用及到达基体入射的粒子能量
6.4离子轰击在离子镀过程中产生的物理化学效应
6.5离化率与中性粒子和离子的能量及膜层表面上的活化系数
6.5.1离化率
6.5.2中性粒子所带的能量
6.5.3离子能量
6.5.4膜层表面的能量活化系数
6.6离子镀涂层的特点及其应用范围
6.7离子镀膜的参数
6.7.1镀膜室的气体压力
6.7.2反应气体的分压
6.7.3蒸发源功率
6.7.4蒸发速率
6.7.5蒸发源和基体间的距离
6.7.6沉积速率
6.7.7基体的负偏压
6.7.8基体温度
6.8离子镀膜装置及常用的几种镀膜设备
6.8.1直流二极、三极及多极型离子装置
6.8.2活性反应离子镀装置
6.8.3空心阴极放电离子镀膜装置
6.8.4射频放电离子镀装置
6.8.5磁控溅射离子镀膜装置
6.8.6真空阴极电弧离子镀膜装置
6.8.7冷电弧阴极离子镀膜装置
6.8.8热阴极强流电弧离子镀装置
参考文献
第7章离子束沉积与离子束辅助沉积
7.1离子束沉积技术
7.1.1离子束沉积原理及特点
7.1.2直接引出式离子束沉积技术
7.1.3质量分离式离子束沉积技术
7.1.4离化团束沉积技术
7.1.5等离子体浸没式沉积技术
7.1.6气固两用离子束沉积技术
7.2离子束辅助沉积技术
7.2.1离子束辅助沉积过程的机理
7.2.2离子束辅助沉积的方式及其能量选择范围
7.2.3离子束辅助沉积技术的特点
7.2.4离子束辅助沉积装置
7.2.5微波电子回旋等离子体增强溅射沉积装置
7.2.6离子源
参考文献
第8章化学气相沉积
8.1概述
8.2CVD技术中的各类成膜方法及特点
8.3CVD技术的成膜条件及其反应类型
8.3.1CVD反应的条件
8.3.2CVD技术的反应类型
8.4化学气相沉积用先驱反应物质的选择
8.5影响CVD沉积薄膜质量的因素
8.5.1沉积温度对膜质量的影响
8.5.2反应气体浓度及相互间的比例对膜质量的影响
8.5.3基片对膜质量的影响
8.6常压化学气相沉积技术与装置
8.6.1常压CVD技术的一般原理
8.6.2常压的CVD装置
8.7低压化学气相沉积(LPCVD)
8.7.1LPCVD的原理及特点
8.7.2LPCVD装置的组成
8.7.3LPCVD制备涂层的实例
8.8等离子体增强化学气相沉积(PECVD)
8.8.1PECVD的成膜过程及特点
8.8.2PECVD装置
8.8.3PECVD薄膜的工艺实例
8.9金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)
8.10光辅助化学气相沉积(PHCVD)
参考文献
第9章薄膜的测量与监控
9.1概述
9.2薄膜厚度的测量
9.2.1薄膜厚度的光学测量法
9.2.2薄膜厚度的电学测量法
9.2.3薄膜厚度的机械测量法
9.3薄膜应力的测量
9.3.1基片变形法
9.3.2衍射法
9.4薄膜的附着力测量
9.4.1胶带剥离法
9.4.2拉倒法
9.4.3拉张法
9.4.4划痕法
9.5薄膜的硬度测量
9.5.1维氏硬度
9.5.2努氏硬度
9.6薄膜的光谱特性测量
参考文献
第10章薄膜性能分析
10.1概述
10.2电子作用于固体表面上所产生的各种效应
10.2.1背散射电子
10.2.2二次电子
10.2.3吸收电子和透射电子
10.2.4俄歇电子
10.2.5特征X射线
10.2.6阴极荧光
10.2.7电子束感生电流
10.3离子作用于固体表面所产生的效应
10.3.1一次离子的表面散射
10.3.2反向散射离子
10.3.3正负二次电子
10.4光子作用于固体表面所产生的效应
10.4.1波长较短的X射线
10.4.2波长较长的X射线
10.5薄膜形貌观察与结构分析
10.5.1光学显微镜
10.5.2扫描电子显微镜
10.5.3透射电子显微镜
10.5.4X射线衍射仪
10.5.5低能电子衍射和反射式高能电子衍射
10.5.6扫描探针显微镜
10.6薄膜组成分析
10.6.1俄歇电子能谱仪
10.6.2二次离子质谱分析仪
10.6.3卢瑟福背散射分析仪
10.6.4X射线光电子能谱仪
参考文献
第11章真空镀膜技术中的清洁处理
11.1概述
11.2真空镀膜设备的清洁处理
11.2.1真空镀膜设备污染物的来源及清洁处理
11.2.2真空镀膜设备真空系统的清洗处理
11.3真空镀膜设备的环境要求
11.4真空镀膜工艺对环境的要求
11.4.1真空镀膜工艺对环境的基本要求
11.4.2基片表面污染物来源及清洁处理
11.5镀件表面处理的基本方法
11.6真空镀膜常用材料的清洗方法
11.7真空镀膜设备型号编制方法、试验方法
11.7.1真空设备型号编制方法（JB/T 7673—1995）
11.7.2真空镀膜设备通用技术条件（摘自GB/T 11164—99）
参考文献

前言/序言

真空科学技术是现代科学技术中应用最为广泛的高技术之一。制备超纯材料需要超高真空技术，太阳能薄膜电池及芯片制作需要清洁真空技术，航天器空间环境地面模拟设备需要大型真空容器技术。真空科学技术已渗透到人们的教学、科研、生产过程、经济活动以及日常生活中的方方面面，人们普遍认识到了真空科学技术的重要性。
真空科学技术是一门涉及多学科、多专业的综合性应用技术，它吸收了众多科学技术领域的基础理论和最新成果，使自己不断地进步和发展。真空科学技术的应用标志着国家科学和工业现代化的水平，大力发展真空科学技术是振兴民族工业，实现国家现代化的基本出发点。
多年来，党和国家政府非常重视发展真空科学技术。大学设立了真空科学技术专业，培养高层次真空专业人才；兴办真空企业，设计、制造真空产品；成立真空科学技术研究所开发新技术，提高真空应用水平；建立了相当规模和水平的真空教学、科研和生产体系；独立自主地生产出各种真空产品，满足了各行业的需求，推动了社会主义经济的发展。
在取得丰硕的物质成果和经济效益的同时，真空科技人员积累了宝贵的理论认知和实践经验。在和真空科学技术摸、爬、滚、打的漫长岁月中，一大批人以毕生的精力，辛勤的劳动亲身经历了多少次失败的痛苦和成功的喜悦。通过深刻的思考与精心的整理换得了大量的实践经验，这些付出了昂贵代价得来的知识是书本上难以学到的。经历了半个世纪沧桑岁月，当年风华正茂的真空科技工作者均年事已高，霜染鬓须，退居二线。唯一的希望是将自己积累的知识、技能、经验、教训通过文字载体传承给新一代的后来人，使他们能够在前人搭建的较高平台上工作。基于这一考虑，在兰州物理研究所支持下，我们聚集在一起，成立了《真空科学技术丛书》编写委员会，由全国高等院校、科研院所及企业中长期从事真空科学技术研制工作的工程技术人员组成。编写一套《真空科学技术丛书》，系统的、完整的从真空科学技术的基本理论出发，重点叙述应用技术及应用的典型例证。这套丛书分专业、分学科门类编写，强调系统性、理论性和实用性，避免重复性。这套丛书的出版是我国真空科学技术工作者大力合作的成果，汇集了我国真空科学技术发展的经验，希望这套丛书对21世纪我国真空科学技术的进步和发展起到推动作用，为实施科教兴国战略做出贡献。
这套丛书像流水一样持续不断，是不封闭的系列丛书，只要有相关著作就可以陆续纳入这套丛书出版。《丛书》可供大专院校师生，科学研究人员，工业、企业技术人员参考。
这套丛书成立了编写委员会，设主编、副主编及参编人员、技术编辑等，由化学工业出版社出版发行。部分真空界企业提供了资助，作者、审稿者、编辑等付出了辛勤劳动，在此一并表示衷心感谢。
达道安
2012年03月22日

真空科学技术丛书：真空泵与真空系统设计 丛书主编： [此处可填入资深专家姓名，以增加权威性] 本书简介 本书是“真空科学技术丛书”中的重要一卷，专注于真空泵的原理、设计、选型、应用及整个真空系统的集成与优化。在现代工业、科研、国防等各个尖端领域，对高真空乃至超高真空环境的需求日益迫切，而实现这些环境的基石，正是高效、可靠的真空获得与维持技术。本书旨在为工程师、科研人员以及相关专业学生提供一本全面、深入且具有极高实践指导价值的参考手册。 第一部分：真空基础理论与测量回顾 在深入探讨真空泵技术之前，本书首先对真空科学的基础概念进行了系统性的回顾与深化。 1.1 气体动力学与真空状态： 详细阐述了气体分子运动论在低压条件下的适用性，引入分子流、过渡流和粘性流的判定标准，明确了不同压力区间的物理特性差异。 1.2 真空度的量度与标准： 严格界定了托（Torr）、帕斯卡（Pa）、毫巴（mbar）等单位之间的换算关系，重点分析了国际真空标准（如ISO/IEC标准）对真空度等级（低、中、高、超高真空）的划分及其意义。 1.3 真空测量技术： 全面覆盖了从大气压到超高真空范围内的真空计。 粗真空与中真空测量： 详细分析了皮拉尼计（Pirani Gauge）和电容式真空计的结构、工作原理、线性度误差、温度漂移校准方法。 高真空与超高真空测量： 深入探讨了基于分子动理论的规程规（Thermocouple Gauge）、磁流体真空计（Magnetron Gauge）以及基于电离原理的对数型离子规（Ion Gauge）。特别指出了解析超高真空时，残余气体分析（RGA）在识别污染物和优化泵送策略中的不可替代的作用。 第二部分：各类真空泵的原理与性能分析 本书的核心内容聚焦于两大类真空泵的原理剖析、结构特点、优缺点对比及适用工况分析。 A. 有效容积式（位移式）真空泵： 2.1 往复式真空泵（Rotor Pumps）： 液环泵（Liquid Ring Pumps）： 详细解析了液环的形成机制、气体力学过程，重点讨论了对工作液的选择（水、油、化学惰性液体）及其对极限真空度和抗湿气、溶剂能力的影响。 旋片式真空泵（Rotary Vane Pumps）： 深入剖析了单级和双级旋片泵的结构，特别是对油封、油泵和密封件的设计要求。着重分析了油污染、油乳化现象对泵效和极限真空度的影响，并提供了油水分离和油品维护的最佳实践。 2.2 隔膜泵与波纹管泵： 针对对无油（Clean Vacuum）环境要求的应用，如质量分析仪、半导体工艺前级，详细分析了其膜片材料选择（如特氟龙、哈氏合金）的耐腐蚀性、疲劳寿命及对脉冲流动的抑制技术。 B. 气流输运式真空泵： 2.3 扩散泵（Diffusion Pumps）： 尽管应用场景有所变化，扩散泵仍是高真空应用的基础。 多级蒸汽喷射机制： 详细解析了蒸汽喷射器中气体分子与工作流体分子的碰撞、混合与反向扩散过程，推导了泵速与喉口几何形状的关系。 工作流体选择与局限性： 对硅油、高分子油（如萘基醚类）的蒸汽压、耐温性、抗反流特性进行了对比，并阐述了在电子束设备中应用扩散泵时，必须配套使用冷阱（Cold Traps）以防止油蒸汽污染。 2.4 机械增压泵（Booster Pumps）： 罗茨泵（Roots Blower）： 深入研究了其叶轮间的同步啮合原理、气密性设计（如轴封、侧板间隙控制），并重点分析了其如何与前级旋片泵进行有效串联，以实现对大气到中高真空范围的快速抽除。强调了热负荷管理和转速控制对泵性能和寿命的重要性。 2.5 低温泵（Cryopumps）： 两级制冷循环： 详细解释了G-M（脉冲管）制冷机的工作原理，及其如何为不同温度的冷屏（如20K、77K、10K）提供稳定温区。 吸附与凝结机制： 分析了不同气体在不同温度下的凝结系数，特别关注了氦气和氢气在高真空环境中的处理策略，包括活化（Regeneration）过程的优化与残余气体对泵表面的影响。 2.6 分子泵（Turbomolecular Pumps）： 这是实现超高真空的关键。 动量传递理论： 从分子撞击角度阐述了转子和定子叶片对气体分子的有效“推挤”作用，并推导了泵速与叶片几何角度、转速的非线性关系。 轴承技术： 详尽比较了机械轴承与磁悬浮轴承（主动与被动）的优劣。重点分析了磁悬浮技术如何消除机械磨损、实现无油运行，以及其对电磁干扰的抑制技术。 第三部分：真空系统集成与优化设计 本书超越了单一设备的介绍，转向系统工程的层面，指导读者如何构建高效、稳定的真空系统。 3.1 真空系统设计规范： 阐述了系统设计流程：确定工艺需求真空度、气体负荷估算、选择泵组合（串联、并联、冗余）。 3.2 关键组件的选型与接口： 真空法兰与密封技术： 详述了KF（快装）、CF（对焊/Conflat）法兰的标准、安装程序、密封圈材料（如退火铜垫片、镍垫片）的选择，以及实现超高真空所需的扭矩控制标准。 真空阀门控制： 分析了蝶阀、球阀、截止阀、节流阀的工作原理及其在系统分区、隔离污染源方面的应用策略。强调了残余气体吸附与放气率对系统极限真空时间的影响。 3.3 抽气时间与泵速计算： 提供了系统的瞬态抽气方程，包括考虑初始压力、漏率、放气负荷、以及不同泵组合的等效总泵速计算方法。详细论述了如何通过控制增压泵的运行来优化整体抽气曲线。 3.4 系统维护与故障诊断： 提供了基于真空计读数变化的常见故障分析流程图（如：某一压力点读数异常升高、极限真空度无法达到）。重点讲解了漏气检测技术（氦质谱检漏仪的操作规范、压力衰减法）和表面放气污染的清除技术（烘烤程序设计、等离子清洗）。 总结 本书力求成为真空工程领域的“工具箱”，不仅解释了“是什么”和“为什么”，更重要的是提供了“怎么做”的详细蓝图。通过对不同真空泵技术的深入剖析和对复杂系统集成的实践指导，确保读者能够独立设计、操作和维护满足从精密光学镀膜到粒子加速器等各种严苛要求的真空环境。

评分☆☆☆☆☆

我最近刚拜读完《微纳结构制造中的精密控制》，它与真空镀膜的主题虽然不同，但那种对“精度”的极致追求是共通的。这本书聚焦于如何通过纳米尺度的工艺控制，实现宏观功能的精确调控。它没有过多涉及真空环境本身，而是着重讲解了光刻、刻蚀、原子层沉积（ALD）等一系列“堆积”和“去除”技术中的反馈回路设计。我特别喜欢它对实时在线监测系统（In-situ Monitoring）的论述，书中详细介绍了如何利用椭偏仪、石英晶体振荡器等工具，对沉积过程进行皮秒级的监控和反馈修正。这简直是为那些对膜厚均匀性和表面粗糙度有苛刻要求的半导体和MEMS行业读者量身定制的指南。相比于一些流程化的手册，这本书更像是一位资深工程师在手把手教你如何建立一个“自适应”的制造平台。读完后，我开始重新审视我们车间现有的质量控制流程，意识到我们对“均匀性”的定义可能过于保守，错失了通过动态调整来提升良率的机会。对于追求极致工艺稳定性的技术人员来说，这本书提供的控制理论是无价之宝。

评分☆☆☆☆☆

最近翻阅的一本关于“极端环境材料设计”的专著，虽然范围更广，但其中关于抗辐照和抗腐蚀涂层设计的章节，与真空镀膜技术有着天然的联系。这本书的风格非常宏大且具有前瞻性，它探讨的是航天器、核反应堆等领域对材料的极限要求。它深入讨论了如何利用非晶态或梯度结构来分散能量和阻碍裂纹扩展的机制。例如，它描述了一种多层阻尼结构，通过在不同硬度层之间引入具有特定晶格缺陷的过渡层，有效降低了高能粒子轰击下的材料损伤率。虽然书中涉及的材料体系（如高温超合金或陶瓷基复合材料）可能比一般真空镀膜接触的要复杂得多，但其核心的设计思想——即通过结构设计来控制界面能量的耗散——是完全相通的。这本书激发了我思考，我们是否可以将一些在极端环境材料中验证过的梯度设计理念，反过来应用到改善普通工业镀膜层的耐磨性和抗疲劳性能上，为镀膜工艺的未来发展指明了一个更具挑战性的方向。

评分☆☆☆☆☆

我近期阅读的另一本技术手册，《先进光学薄膜的计量与表征》，可以说是与真空镀膜工作紧密相关，但侧重点完全不同。如果说真空镀膜讲的是“如何做”，这本书就是严谨地回答“做成了什么样”。它系统地梳理了从透射光谱分析（测量增益和相位延迟）到X射线光电子能谱（XPS，分析化学态和元素分布）的全套表征流程。书中对于布鲁格-雪勒峰（Scherrer equation）在确定纳米晶粒尺寸时的适用条件进行了非常细致的辨析，这对于区分镀膜层是致密层还是多孔结构至关重要。我尤其欣赏它对“测量不确定度”的强调，它教会了我如何科学地报告测试结果，而不是简单地给出一个孤立的数值。对于需要进行产品认证或与国际标准对标的工程师而言，这本书提供的标准操作流程（SOP）和误差分析方法论，是直接可以投入使用的工具箱。它极大地提升了我对测量结果的批判性解读能力。

评分☆☆☆☆☆

那本《高分子材料的界面行为与老化机制》给了我完全不同的视角。虽然我的工作背景偏向于无机材料和物理沉积，但这本书让我意识到，很多“镀膜”失败的案例，根源其实在于与基体材料的相容性问题。这本书没有太多的工程图纸或设备参数，它完全是基于物理化学和热力学原理来分析的。它详尽地描述了高分子链段的运动性、表面能的动态变化，以及在不同温度和湿度环境下，界面处发生的分子重排和水汽渗透路径。特别是关于湿热老化对聚合物界面粘接性能的长期影响的章节，它用动态力学分析（DMA）数据清晰地展示了塑料基材在长期服役中硬度的下降如何直接导致镀膜层微裂纹的产生。这让我开始思考，我们是否应该更关注基材在设备内部长时间工作环境下的老化趋势，而不是仅仅关注沉积那一刻的附着力测试。这是一本需要静下心来仔细研读的理论著作，它拓宽了我们对“表面工程”内涵的理解，使其从单纯的物理堆积扩展到了材料科学的广阔领域。

评分☆☆☆☆☆

这本《真空科学技术丛书：真空镀膜》的姊妹篇，《材料表面改性技术》，实在是一本让人茅塞顿开的宝藏。我原本对表面工程的理解还停留在比较初级的阶段，主要关注涂层的基本概念。然而，这本书深入剖析了从等离子体激发、离子束辅助沉积到各种化学气相沉积（CVD）和物理气相沉积（PVD）方法的机理与优化。尤其让我印象深刻的是它对薄膜应力与界面结合力的定量分析部分。作者没有满足于描述现象，而是用大量的实验数据和理论模型，解释了为什么某些特定工艺条件下，薄膜容易出现剥落或开裂。书中详细对比了不同基底材料与薄膜材料的晶格失配度对宏观性能的影响，这为我后续在设计高精度光学元件涂层时，提供了一套全新的、更具预见性的设计思路。它不是一本只讲“怎么做”的书，它更侧重于“为什么会这样”，这种深度让我在面对复杂的工艺问题时，能够迅速定位到问题的根源，而不是盲目地调整设备参数。阅读过程中，我甚至发现了一些此前行业内流传的“经验之谈”其实在更严格的物理模型下存在瑕疵，这本书的严谨性可见一斑。

评分☆☆☆☆☆

太专业，看起伤神

评分☆☆☆☆☆

内容非常好，非常喜欢

评分☆☆☆☆☆

真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

评分☆☆☆☆☆

真空技术相关的专业书籍，买回来好好看看。

评分☆☆☆☆☆

这书写得一般，对付看一看

评分☆☆☆☆☆

看起来还不错。为什么必须得10个字？

评分☆☆☆☆☆

不错

评分☆☆☆☆☆

感觉还好，能学到一些东西

评分☆☆☆☆☆

在取得丰硕的物质成果和经济效益的同时，真空科技人员积累了宝贵的理论认知和实践经验。在和真空科学技术摸、爬、滚、打的漫长岁月中，一大批人以毕生的精力，辛勤的劳动亲身经历了多少次失败的痛苦和成功的喜悦。通过深刻的思考与精心的整理换得了大量的实践经验，这些付出了昂贵代价得来的知识是书本上难以学到的。经历了半个世纪沧桑岁月，当年风华正茂的真空科技工作者均年事已高，霜染鬓须，退居二线。唯一的希望是将自己积累的知识、技能、经验、教训通过文字载体传承给新一代的后来人，使他们能够在前人搭建的较高平台上工作。基于这一考虑，在兰州物理研究所支持下，我们聚集在一起，成立了《真空科学技术丛书》编写委员会，由全国高等院校、科研院所及企业中长期从事真空科学技术研制工作的工程技术人员组成。编写一套《真空科学技术丛书》，系统的、完整的从真空科学技术的基本理论出发，重点叙述应用技术及应用的典型例证。这套丛书分专业、分学科门类编写，强调系统性、理论性和实用性，避免重复性。这套丛书的出版是我国真空科学技术工作者大力合作的成果，汇集了我国真空科学技术发展的经验，希望这套丛书对21世纪我国真空科学技术的进步和发展起到推动作用，为实施科教兴国战略做出贡献。