半导体光谱测试方法与技术

半导体光谱测试方法与技术 pdf epub mobi txt 电子书 下载 2025

张永刚,顾溢,马英杰 著
图书标签:
  • 半导体
  • 光谱测试
  • 测试技术
  • 光电检测
  • 材料分析
  • 半导体器件
  • 光学测量
  • 质量控制
  • 失效分析
  • 可靠性测试
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出版社: 科学出版社有限责任公司
ISBN:9787030472229
版次:1
商品编码:11884912
包装:精装
丛书名: 半导体科学与技术丛书
开本:16开
出版时间:2016-01-01
用纸:胶版纸
页数:331
字数:421000
正文语种:中文

具体描述

内容简介

  《半导体光谱测试方法与技术》在回顾光谱学和光谱仪器的发展过程后,对半导体中涉及的主要光学过程以及半导体材料、器件及应用研究中需要哪些光谱分析手段和方法作了简要介绍,然后以分光(色散)和傅里叶变换两种方法为基础讨论了光谱分析的基本原理、测试仪器、关键部件、系统构成以及限制因素等,并结合一系列测量实例对吸收谱类、光电谱类和发射谱类测量方法与技术及相关细节进行了详细说明。此外,《半导体光谱测试方法与技术》还对半导体研究中涉及的一些拓展的光谱分析方法(如拉曼光谱、微区光谱、扫描成像光谱、时间分辨瞬态光谱及调制光谱等)也结合实例进行了介绍。
  《半导体光谱测试方法与技术》可供从事半导体光谱分析的研究生、研究人员及工程技术人员阅读,也可作为其他涉及此领域人员的参考书。

内页插图

目录

前言

第1章 光谱学和光谱仪器的发展概况
1.1 引言
1.2 光谱学及其发展一瞥
1.3 光谱学仪器及测量方法发展简述
1.4 小结
参考文献

第2章 半导体中的光学过程
2.1 引言
2.2 半导体的基本光学参数
2.2.1 折射率和吸收系数
2.2.2 反射系数和透射系数
2.3 半导体中的光吸收
2.3.1 带间本征跃迁光吸收
2.3.2 其他类型光吸收
2.4 半导体的发光
2.4.1 辐射复合与非辐射复合
2.4.2 自发辐射与受激辐射
2.4.3 发光效率
2.5 半导体中的光散射
2.5.1 半导体中的光散射解释
2.5.2 拉曼散射与拉曼光谱
2.5.3 布里渊散射
2.6 小结
参考文献

第3章 半导体研究中的光谱测试需求
3.1 引言
3.2 半导体材料研究中的光谱测试需求
3.3 半导体器件研究中的光谱测试需求
3.4 应用研究中的光谱测试需求
3.5 小结
参考文献

第4章 分光光谱仪的组成部件及测量系统
4.1 引言
4.2 分光元件
4.2.1 棱镜分光元件及光学材料的特性
4.2.2 光栅分光元件及其主要参数
4.2.3 其他类型的分光元件
4.3 光源
4.3.1 热光源
4.3.2 气体放电光源
4.3.3 同步辐射光源与自由电子激光器
4.3.4 激光光源
4.4 光电探测器
4.4.1 热辐射型探测器
4.4.2 量子型探测器
4.4.3 阵列型探测器
4.5 电子学部件及计算机
4.6 样品的冷却及温度控制装置
4.7 基于分光光谱仪的测量系统实例
4.8 小结
参考文献

第5章 傅里叶变换光谱仪及其组成部件和测量系统
5.1 引言
5.2 迈克耳孙干涉仪与傅里叶变换光谱仪
5.3 傅里叶变换光谱仪的主要部件
5.3.1 分束器
5.3.2 光源
5.3.3 光电探测器
5.3.4 分束器、光源及光电探测器的组合搭配及外光路配置
5.4 电子学部件、计算机及样品冷却装置
5.5 小结
参考文献

第6章 透射、吸收与反射光谱测量方法及实例
第7章 光电光谱测量方法及实例
第8章 发射光谱测量方法、实例及综合测量系统
第9章 拉曼光谱测量方法及实例
第10章 微区及扫描成像光谱测量方法及实例
第11章 时间分辨光谱测量方法及实例
第12章 调制光谱测量方法及实例
结束语
汉英对照索引
《半导体科学与技术丛书》已出版书目
彩图

前言/序言


《光电材料的性能表征与应用》 第一章:引言 光电材料作为现代科技发展的重要基石,其性能的精准表征和高效利用是推动半导体、通信、显示、能源等诸多领域进步的关键。这些材料能够将光能与电能相互转化,其独特的光电特性使其在信息技术、新能源、环境监测等领域展现出巨大的应用潜力。然而,要充分发挥这些材料的优势,深入理解其微观结构、电子能带特性以及光与物质相互作用的机制至关重要。这就离不开一套系统、严谨的表征技术。 本书旨在系统介绍光电材料性能表征的核心原理、常用方法及其在实际应用中的典型案例。我们并非局限于某一种特定的材料或某一种特定的测试技术,而是从更宏观的视角出发,探讨如何全面、深入地认识和评估各类光电材料,以指导材料的设计、制备、优化以及最终的应用开发。本书强调的是一种通用的、跨学科的表征思维和技术框架,适用于研究人员、工程师以及对光电材料感兴趣的学生。 我们将从光电材料的基本概念入手,逐步深入到其关键性能参数的定义与测量。随后,我们将详细阐述一系列核心的表征技术,包括但不限于光学测量、电学测量以及结合这两者的综合性表征手段。对于每一种技术,我们都会深入剖析其基本原理、仪器构成、数据处理方法以及能够获取的关键信息。此外,本书还将重点关注如何将这些表征结果与材料的宏观性能和实际应用联系起来,提供实际的指导意义。 我们期望通过本书,读者能够建立起对光电材料性能表征的全面认知,掌握常用的表征工具和技术,并能够将所学知识灵活应用于自己的研究和开发工作中,为推动光电材料领域的创新与发展贡献力量。 第二章:光电材料的基本概念与关键性能参数 在深入探讨表征技术之前,有必要对光电材料的基本概念及其关键性能参数有一个清晰的认识。 2.1 光电材料的定义与分类 光电材料是指能够吸收光子能量并产生电荷载流子(电子和空穴),或是在电场作用下产生光辐射的材料。它们的本质在于其特殊的电子能带结构,使得光与物质的相互作用能够有效地引起电学性质的变化,反之亦然。 根据其在光电器件中的作用,光电材料可以大致分为以下几类: 半导体材料: 这是最广泛和最重要的光电材料类别,包括硅(Si)、砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)以及各种有机半导体材料。它们的导电性介于导体和绝缘体之间,其导电性可以通过掺杂来精确调控。在半导体材料中,带隙(Band Gap)是决定其光电特性的最关键参数之一,它决定了材料能够吸收或发射的光的波长范围。 发光材料: 这类材料在受到激发(如电场、电子束、化学反应或光照)后能够发射出可见光或不可见光,例如荧光粉、有机发光二极管(OLED)材料、量子点等。其发光效率、颜色纯度、寿命等是重要的性能指标。 光敏材料: 这类材料在接收到光照后,其电学性质(如电阻、导电率)会发生显著变化,例如光电导材料、光电二极管材料等。它们广泛应用于光传感器、光检测器等领域。 光伏材料: 这类材料能够将光能直接转化为电能,例如太阳能电池中的光伏材料。其光电转换效率是衡量其性能的核心指标。 非线性光学材料: 这类材料在强光作用下会表现出与光强呈非线性关系的电学或光学响应,例如用于频率转换、光开关等。 2.2 关键性能参数的定义与意义 理解这些关键性能参数是进行有效表征的前提。 带隙(Band Gap,Eg): 对于半导体材料而言,带隙是指价带顶(Valence Band Maximum)与导带底(Conduction Band Minimum)之间的能量差。它决定了材料对光的吸收和发射能力。小于或等于带隙能量的光子才能被吸收,产生电子-空穴对。带隙越小,材料吸收的光波长越长。 吸收系数(Absorption Coefficient,α): 表示光在材料中传播时,光强随传播距离衰减的程度。高吸收系数意味着材料能在较薄的厚度内有效吸收光。 载流子浓度(Carrier Concentration,n, p): 指单位体积内自由电子(n)或空穴(p)的数量。载流子浓度直接影响材料的导电性。 载流子迁移率(Carrier Mobility,μ): 指载流子在电场作用下定向移动的难易程度,即单位电场强度下载流子漂移的速度。高迁移率意味着载流子能够更有效地传输能量,这对高速器件至关重要。 载流子寿命(Carrier Lifetime,τ): 指载流子被产生后,在被复合(与反号载流子重新结合)而消失之前,平均能够存在的时间。长载流子寿命有利于载流子的传输和收集,提高器件效率。 发光效率(Luminescence Efficiency): 指材料将输入能量(如电能)转化为光能的比例。可以是内量子效率(Internal Quantum Efficiency,IQE)或外量子效率(External Quantum Efficiency,EQE)。 光电转换效率(Photoelectric Conversion Efficiency): 特指太阳能电池等将光能转化为电能的效率。 响应时间(Response Time): 指光电材料对光信号变化的响应速度,包括上升时间和下降时间。 这些参数相互关联,共同决定了光电材料在特定应用中的性能表现。精准地测量这些参数,并深入分析其物理根源,是优化材料和器件设计的关键。 第三章:光学表征技术 光学表征技术利用光与材料的相互作用来获取材料的信息。它们通常是非破坏性的,并且能够提供关于材料的电子结构、光学常数、形貌以及表面特性的丰富信息。 3.1 光谱学方法 光谱学方法是通过分析材料对光的吸收、发射或散射光谱来研究其性质。 紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)吸收光谱: 原理: 测量材料在紫外、可见光和近红外区域的光吸收强度随波长的变化。不同材料的电子跃迁、分子振动等会在特定波长处产生吸收峰。 仪器: 分光光度计,包含光源、单色器、样品室、检测器。 获取信息: 材料的带隙能量(通过吸收边缘计算)、电子跃迁能级、官能团的识别、材料的纯度等。例如,对于半导体材料,可以通过其吸收边缘的形状和位置来估算带隙。 应用: 评估半导体材料的吸收范围,检测有机发光材料的吸收特性,分析染料的吸收光谱。 光致发光(Photoluminescence, PL)光谱: 原理: 材料吸收光子能量后,价带中的电子跃迁到导带,然后通过非辐射或辐射跃迁回到价带,释放出光子。PL光谱记录的是材料发射光的波长分布和强度。 仪器: 激发光源(如激光器)、单色器、探测器、光谱仪。 获取信息: 材料的禁带宽度(或发光中心能量)、载流子复合机制、缺陷态的识别(通过缺陷相关的发光峰)、材料的纯度、发光效率的相对评估。PL峰的形状、半高宽(FWHM)也包含重要信息。 应用: 评估LED和激光器的发光材料质量,研究半导体量子点的发光特性,探测材料中的缺陷,分析掺杂元素的激发能级。 拉曼光谱(Raman Spectroscopy): 原理: 当光照射到物质上时,绝大多数光会发生弹性散射(瑞利散射),但有一小部分光会发生非弹性散射(拉曼散射)。拉曼散射光的频率变化(与入射光频率之差)取决于物质的分子振动模式,与材料的晶格结构、化学键特性密切相关。 仪器: 激光器、显微镜、光栅、探测器(CCD)。 获取信息: 材料的晶格动力学、化学键的识别、晶体相变、应力、取向、同素异形体的区分(如石墨烯、石墨)。拉曼峰的位置、强度、形状可以提供丰富的结构信息。 应用: 辨别不同晶型的二氧化钛,分析碳纳米管和石墨烯的结构,研究薄膜材料的应力状态,无损检测材料成分。 傅里叶变换红外(FTIR)光谱: 原理: 利用材料对红外光的吸收来识别其分子振动模式。不同的化学键在红外区域有其特征吸收峰。 仪器: 红外光源、干涉仪、探测器。 获取信息: 材料的化学组成、官能团的识别、化学键的类型和强度、有机材料的结构分析。 应用: 分析聚合物材料的组成,鉴定有机半导体材料的结构,检测材料中的吸附物或杂质。 3.2 椭圆偏振光谱(Ellipsometry) 原理: 测量偏振光在反射或透射过程中引起的偏振态变化,通常测量的是不同波长下的反射光与入射光的振幅比和相位差。这些参数与材料的光学常数(折射率n和消光系数k)、厚度以及表面粗糙度密切相关。 仪器: 偏振光源、波片、衰减器、检测器、光谱仪。 获取信息: 材料的折射率(n)和消光系数(k)随波长的变化,即光学常数。通过光学模型拟合,可以精确测定薄膜的厚度、折射率、吸收系数以及界面信息。 应用: 精确测量半导体薄膜的厚度,确定薄膜材料的光学常数,分析多层膜结构,研究材料的界面特性,监测材料的退化过程。 3.3 反射率(Reflectance)和透射率(Transmittance)测量 原理: 直接测量材料对光的反射和透射强度随波长的变化。 仪器: 光源、积分球、检测器、光谱仪。 获取信息: 反射率和透射率曲线可以提供关于材料吸收特性的初步信息。结合其他方法(如吸收光谱),可以更全面地了解材料的光学行为。对于透明材料,透射率直接反映了其对特定波长光的透过能力。 应用: 评估薄膜的反射率和透射率,用于设计光学涂层和显示器件;测量玻璃或塑料的透光率。 3.4 场发射扫描电子显微镜(FESEM)和透射电子显微镜(TEM) 虽然SEM和TEM主要用于形貌和结构分析,但它们与能量色散X射线谱(EDX)或电子能量损失谱(EELS)联用时,可以提供与光学性质相关的局域化学和电子结构信息。 FESEM: 提供高分辨率的样品表面形貌图像,可以观察材料的微观结构、晶粒尺寸、表面形貌特征。 TEM: 能够提供材料内部结构的超高分辨率图像,观察晶格结构、畴结构、纳米结构等。 EDX/EELS: 在SEM/TEM成像的同时,可以分析样品中元素的组成和含量,EELS还能提供与电子结构、化学态相关的信息,间接反映材料的光电性能。 应用: 观察半导体异质结的界面形貌,分析纳米晶的尺寸分布,研究材料的缺陷结构,通过EELS分析量子点的电子结构。 第四章:电学表征技术 电学表征技术关注材料的导电性、载流子特性以及其对电场和温度的响应,这些都与光电材料的光电转换和传输过程直接相关。 4.1 直流(DC)电学测量 四探针法(Four-Point Probe Method): 原理: 在样品上固定距离放置四根探针,其中两根外侧探针施加恒定电流,测量另两根内侧探针之间的电压降。通过测量不同配置下的电阻,可以计算出样品的电阻率和表面电阻率。 仪器: 直流电源、电压表、四探针测试台。 获取信息: 材料的电阻率、表面电阻率。适用于测量半导体材料、金属薄膜的导电性。 应用: 快速评估半导体衬底的导电性,检测薄膜材料的均匀性,区分p型和n型材料(通过霍尔效应测量)。 霍尔效应测量(Hall Effect Measurement): 原理: 在施加一定电流并通过垂直于电流方向施加磁场时,载流子会受到洛伦兹力作用而发生偏转,在垂直于电流和磁场方向上产生一个电势差,即霍尔电压。通过测量霍尔电压,可以确定载流子的类型(电子或空穴)、载流子浓度以及载流子迁移率。 仪器: 恒流源、磁场发生器、高精度电压表、霍尔效应测试系统。 获取信息: 载流子类型(p型或n型),载流子浓度(n或p),载流子迁移率(μ)。这些是衡量材料电学性能的最基本参数。 应用: 准确表征半导体材料的掺杂水平和载流子传输能力,评估有机半导体材料的载流子特性。 I-V(电流-电压)特性测量: 原理: 测量在不同电压下流过器件或材料的电流。这是理解各种光电器件(如二极管、晶体管、太阳能电池)工作特性的基础。 仪器: 源表(Source Meter),可以同时提供电压或电流并测量相应的电流或电压。 获取信息: 器件的导通电压、漏电流、击穿电压、电阻、开关比、二极管特性(正向饱和电流、反向饱和电流、填充因子等)。对于太阳能电池,可以得到开路电压(Voc)、短路电流(Isc)、填充因子(FF)和光电转换效率。 应用: 表征二极管、晶体管的电学性能,测试LED的发光特性,评估太阳能电池的光电性能,研究材料的非线性导电行为。 C-V(电容-电压)特性测量: 原理: 测量在不同电压下,由两个电极构成的器件的电容量。通常用于测量PN结或MOS结构中的耗尽层宽度变化,从而获取掺杂浓度、表面势垒、陷阱态等信息。 仪器: LCR测试仪(电感、电容、电阻测试仪)、交流信号源。 获取信息: 结电容、内建电势、载流子浓度剖面、耗尽层宽度、缺陷态密度(通过深能级瞬态谱,DLTS,与C-V结合)。 应用: 确定PN结的掺杂浓度分布,表征MOS器件的栅极介质质量,分析肖特基二极管的势垒高度。 4.2 交流(AC)电学测量 阻抗谱(Impedance Spectroscopy): 原理: 在一定频率范围内,施加小幅度交流电压,测量系统的阻抗(包括实部和虚部)。阻抗随频率的变化可以反映材料内部不同弛豫过程,如电荷传输、界面响应、电化学反应等。 仪器: 阻抗谱仪,包含信号发生器和阻抗分析仪。 获取信息: 材料的电导率、介电常数、弛豫时间、界面电阻、扩散阻抗等。可以分析材料内部的电荷传输路径和障碍。 应用: 研究固态电解质、电池材料、有机半导体薄膜的电荷传输机制,分析界面效应。 4.3 温度依赖性电学测量 原理: 通过改变温度并测量材料的电学参数(如电阻率、载流子迁移率),可以研究载流子的激活机制、散射机制以及与温度相关的相变等。 仪器: 恒温台、低温恒温器、电学测量设备。 获取信息: 载流子激活能、散射机制(如声子散射、杂质散射)、材料在不同温度下的导电行为。 应用: 确定半导体材料的掺杂激活能,研究金属-绝缘体转变,评估材料在不同工作温度下的稳定性。 第五章:综合表征技术与应用案例 在实际的光电材料研究和器件开发中,单一的表征技术往往不足以全面揭示材料的性能。因此,多种表征技术的联合应用,以及将表征结果与理论模型相结合,能够提供更深入的理解。 5.1 联合表征的重要性 互补性: 不同表征技术具有不同的优势和局限性。例如,光学表征能提供电子结构信息,而电学表征则侧重于载流子传输行为。联合使用能够从不同维度揭示材料的本质。 验证与确认: 通过不同方法测量同一参数,可以相互验证结果的准确性,提高数据的可靠性。 关联性: 将光学参数(如带隙、吸收系数)与电学参数(如载流子迁移率、寿命)联系起来,可以更深入地理解材料内部的物理过程,例如,了解高的吸收系数如何转化为高的光电流。 失效分析: 在器件失效分析中,结合形貌、成分、电学和光学表征,能够快速定位失效原因。 5.2 典型应用案例 高性能LED发光材料的开发: 目标: 提高发光效率、改善发光颜色纯度、延长器件寿命。 表征方法: PL光谱: 测量发光峰的位置(确定颜色)、半高宽(确定颜色纯度)和强度(评估相对发光效率)。通过温度依赖性PL研究载流子非辐射复合。 SEM/TEM: 观察发光纳米晶的尺寸、形貌和分布,研究其表面形貌对发光性能的影响。 FTIR/拉曼光谱: 分析发光材料的化学结构和晶格质量。 I-V特性: 测量LED器件的正向导通压降、电流密度和效率。 关联分析: PL光谱的峰位与半导体材料的带隙密切相关;PL强度与载流子注入和复合效率相关。SEM/TEM观察到的纳米晶尺寸和表面状态会影响PL的量子产率。 高效太阳能电池材料的优化: 目标: 提高光电转换效率,降低成本,提高稳定性。 表征方法: UV-Vis-NIR吸收光谱: 确定材料的吸收范围和吸收强度,计算理论最大效率。 PL光谱: 评估材料的非辐射复合水平,PL量子产率与光伏效率有一定关联。 霍尔效应和I-V特性(光照下): 测量太阳能电池的光电流、短路电流密度、填充因子、开路电压,评估载流子传输和收集效率。 阻抗谱: 研究电池内部的电荷传输和界面电阻,寻找效率损失的根源。 C-V特性: 分析PN结或肖特基结的特性,优化耗尽层厚度和载流子复合。 关联分析: 宽的吸收范围(UV-Vis-NIR)和高的吸收系数是获得高短路电流的基础。高迁移率和长载流子寿命(霍尔效应)有助于载流子的有效收集。低界面电阻(阻抗谱)和良好的PN结特性(C-V,I-V)能提高填充因子和开路电压。 有机半导体在柔性电子中的应用: 目标: 实现高迁移率、良好的薄膜成膜性、稳定性。 表征方法: I-V特性: 测量有机薄膜晶体管(OTFT)的迁移率、开关比、亚阈值摆幅。 霍尔效应: 直接测量有机半导体材料的载流子迁移率和类型。 AFM(原子力显微镜): 观察有机半导体薄膜的表面形貌,如晶粒大小、粗糙度、结晶性,这些对迁移率影响很大。 UV-Vis-NIR吸收和PL光谱: 分析有机分子的电子结构和发光性能。 FTIR: 确认有机分子的化学结构。 关联分析: AFM观察到的有序堆积结构和低粗糙度通常与高迁移率相关。有机半导体的分子结构(FTIR)决定了其电子能级(吸收/PL光谱),进而影响载流子传输(霍尔效应/I-V)。 结论 光电材料的性能表征是一个多维度、系统性的过程。本书所介绍的光学和电学表征技术,以及它们之间的联合应用,为深入理解和优化光电材料提供了强大的工具。通过掌握这些原理和方法,研究人员和工程师能够更有效地设计、制备和评估光电材料,从而在半导体、新能源、信息显示等领域取得突破性进展,推动科技的持续发展。未来的研究将继续致力于开发更灵敏、更快速、更精密的表征技术,并将其与计算模拟相结合,以实现对光电材料更深层次的理解和更精确的调控。

用户评价

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这本书给我带来了一种意想不到的“穿越感”,仿佛在阅读一本关于“材料科学的溯源史”。我最初购买这本书的目的是想深入了解半导体材料在不同光谱下的表现特性,以及相应的测试技术和方法。我期望书中能够详尽地介绍各种光谱技术在半导体领域的应用,比如如何利用吸收光谱来研究半导体的带隙,如何利用反射光谱来分析材料的表面和界面,如何利用荧光光谱来评估材料的缺陷和发光效率。我希望能够看到具体的仪器设备型号、测试参数设置、数据处理流程以及相关的标准规范。然而,这本书的内容更多地聚焦于“材料”本身,从基础的晶体结构、化学键合,到材料的形成过程、制备工艺,再到材料的物理性质(如电学、磁学、热学特性)是如何与结构和化学成分相互关联的。书中花了大量篇幅去阐述这些基础的材料科学原理,虽然对于理解半导体材料至关重要,但对于我想要了解的“光谱测试”这一具体的技术环节,似乎只是点缀。这种“重材料、轻测试”的侧重点,让我感觉像是走进了一个材料科学的博物馆,看到了各种精美的展品,却未能找到指引我进行具体“操作”的地图。

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这本书我看了快一个月了,一开始是冲着“半导体”这个前沿领域来的,想着能学到点东西,但读完之后,我才发现这本书其实更像是作者一次关于“光”的哲学思考的集中展现。书中大量的篇幅都在探讨光的本质,从经典物理学中的波动说、粒子说到量子力学中的光子概念,再到更深层次的相干性、衍射等等。虽然这些内容本身很有趣,也让我对光有了全新的认识,但老实说,跟我当初想了解的“半导体光谱测试”似乎有些距离。我期待的是能有具体的仪器介绍、操作步骤、数据分析方法,甚至是实际案例分析,能够指导我如何在实际工作中应用这些知识。但书中更多的是理论上的探讨,很多概念讲得很深奥,虽然作者努力用比喻和类比来解释,但对于我这种偏重实践的读者来说,还是觉得有些晦涩难懂。而且,书中对于“测试”这个环节的描述也相当有限,更多的是在铺垫测试背后的光学原理。感觉作者更像是想通过半导体这个载体,来阐述他对于光的理解,而读者我,则像是误闯了一个光学研究所,收获了一堆理论知识,却不知道该如何将其转化为解决实际问题的工具。

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坦白说,这本书给了我一种非常意外的阅读体验。我拿到这本书的时候,脑海里预设的是一本技术手册,一本可以教我如何操作设备、分析数据的“说明书”。然而,翻开书页,我却进入了一个充满历史感和人文关怀的世界。作者花了大量篇幅讲述了光学发展史,从牛顿的三棱镜实验到惠更斯的波动说,再到菲涅索的衍射和干涉,甚至还穿插了一些科学家们的轶事趣闻。这些内容确实很有趣,让我了解了许多我之前从未接触过的知识,也对光学这门学科的演进有了更深的理解。但是,正如我的初步设想,我花了很长时间寻找书中关于“半导体光谱测试”的具体方法和技术细节,比如不同半导体材料的光谱特性、常用的测试设备(如光谱仪、光源、探测器)的原理和选型,以及如何根据不同的测试目的(如成分分析、掺杂浓度测量、缺陷表征)来设计和执行测试方案。很遗憾,这些具体的技术层面的内容在书中非常稀少,甚至可以说几乎没有。所以,这本书对我而言,更像是一次关于光学发展史的普及读物,而非一本实操性的技术指南,这让我感到有些失落。

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说实话,这本书让我对“光谱”有了全新的认识,但这种认识似乎与我最初的目标渐行渐远。我当初选择这本书,是希望能够学习到半导体材料的光谱测试方法和相关技术,从而能够更好地应用于我的工作。我期待的是能够看到各种光谱仪(如紫外-可见光谱仪、红外光谱仪、拉曼光谱仪)的原理、性能参数、选型指南,以及如何针对不同的半导体材料(如硅、砷化镓、氮化镓)进行光谱测试的详细步骤,包括样品制备、测试条件优化、数据采集与分析等。我希望能够从中获得实操性的指导,提升我的测试技能。然而,这本书花了相当大的篇幅去阐述“光谱”本身是如何产生的,从原子和分子的能级跃迁,到电磁波与物质的相互作用,再到各种光谱现象(如吸收、透射、发射、反射、散射)的机理。这些内容虽然非常基础和重要,但对于已经具备一定光学基础的读者来说,显得有些冗长和理论化。书中对于“测试”环节的描述非常笼统,缺乏具体的实验细节和案例,更像是对光谱学原理的介绍,而不是一本侧重于半导体光谱测试的实用技术书籍。

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这本书的视角相当独特,它更像是一篇关于“测量”本身的哲学思考录。我原本期待的是一本能够深入讲解如何对半导体材料进行光谱分析的书籍,内容上希望包含各种测试技术、仪器设备、数据处理算法,以及在不同应用场景下的案例。然而,这本书的重点似乎并非如此。作者花了大量篇幅探讨了“测量”这个行为的本质,从测量的不确定性,到不同测量工具的局限性,再到信息论在测量过程中的应用。他试图从一个更宏观、更抽象的角度来审视“测量”这件事,这使得全书充满了思辨色彩。虽然这些理论探讨颇具启发性,让我从一个新的角度去思考如何进行科学研究,但对于一个希望快速掌握半导体光谱测试具体技能的读者来说,这本书的价值就显得有些不足了。我读了很多关于“为什么测量”、“测量的边界在哪里”的讨论,但关于“如何具体地测量半导体的光谱”、“用什么工具”、“怎么解读数据”的实用信息却寥寥无几。这本书更像是一本关于“如何思考测量”的书,而非一本“如何进行测量”的书。

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