基本信息
書名:集成電路製造技術
定價:35.00元
作者:杜中一
齣版社:化學工業齣版社
齣版日期:2016-04-01
ISBN:9787122262844
字數:
頁碼:
版次:1
裝幀:平裝
開本:16開
商品重量:0.4kg
編輯推薦
《集成電路製造技術》全麵係統地介紹瞭集成電路製造技術,內容包括集成電路製造概述、多晶半導體的製備、單晶半導體的製備、晶圓製備、薄膜製備、金屬有機物化學氣相沉積、光刻、刻蝕及摻雜。《集成電路製造技術》簡要介紹瞭集成電路製造的基本理論基礎,係統介紹瞭多晶半導體、單晶半導體與晶圓的製備,詳細介紹瞭薄膜製備、光刻與刻蝕及摻雜等工藝。由於目前光電産業的不斷發展,對於化閤物半導體的使用越來越多,《集成電路製造技術》以半導體矽材料集成電路製造為主,兼顧化閤物半導體材料集成電路製造,比如在介紹薄膜製備工藝中,《集成電路製造技術》用單獨的一章介紹瞭如何通過金屬有機物化學氣相沉積來製備化閤物半導體材料薄膜。《集成電路製造技術》可供集成電路製造行業從業人員學習參考,也可作為微電子、光電子等相關專業教材。
內容提要
《集成電路製造技術》全麵係統地介紹瞭集成電路製造技術,內容包括集成電路製造概述、多晶半導體的製備、單晶半導體的製備、晶圓製備、薄膜製備、金屬有機物化學氣相沉積、光刻、刻蝕及摻雜。《集成電路製造技術》簡要介紹瞭集成電路製造的基本理論基礎,係統介紹瞭多晶半導體、單晶半導體與晶圓的製備,詳細介紹瞭薄膜製備、光刻與刻蝕及摻雜等工藝。由於目前光電産業的不斷發展,對於化閤物半導體的使用越來越多,《集成電路製造技術》以半導體矽材料集成電路製造為主,兼顧化閤物半導體材料集成電路製造,比如在介紹薄膜製備工藝中,《集成電路製造技術》用單獨的一章介紹瞭如何通過金屬有機物化學氣相沉積來製備化閤物半導體材料薄膜。《集成電路製造技術》可供集成電路製造行業從業人員學習參考,也可作為微電子、光電子等相關專業教材。
目錄
作者介紹
杜中一,大連職業技術學院,副院長,副教授研究方嚮:電子科學與技術一..教育背景 1997.9—2001.7 遼寜石油化工大學計算機科學專業,獲理工學士學位。 2003.9—2006.7 大連理工大學機電專業,獲工學碩士學位。二.著譯作品(1)主編《SMT錶麵組裝技術》電子工業齣版社 2009年1月(2)主編《電子製造與封裝》電子工業齣版社 2010年3月(3)主編《半導體技術基礎》化學工業齣版社 2011年1月(4)主編《電類專業英語》電子工業齣版社 2012年11月三.業務成果 主持完成省級及以上科研課題5項。 在全國性刊物發錶學術論文26篇,其中ISTP收錄1篇,北大核心2篇。4項。橫嚮課題3項。
文摘
序言
這本書最讓我印象深刻的是它對“缺陷控製”的重視程度,這幾乎貫穿瞭全書的每一章,體現瞭現代精密製造的核心思想。它不僅僅是介紹製造步驟,更是在教導一種“質量至上”的思維模式。在討論化學機械拋光(CMP)時,作者沒有僅僅滿足於介紹研磨液和拋光墊的選擇,而是深入剖析瞭不同缺陷類型(如劃痕、殘留物和丘疹)的成因,並詳細列舉瞭相應的在綫檢測和離綫分析手段。這種全景式的視角非常實用,因為它在實際工作中,找到並解決一個工藝瓶頸往往比學會如何執行一個標準流程要睏難得多。書中對“汙染控製”的描述也達到瞭驚人的細緻,甚至包括瞭對超純水(UPW)電阻率的實時監控標準和顆粒物監測的閾值設定,這些都是教科書上很少會詳細闡述的“現場知識”。這本書讀下來,我感覺自己不僅僅是在學習製造流程,更是在學習如何構建一個高可靠性、高收率的生産體係。它提供的知識密度非常高,我不得不經常停下來,對照著圖錶反復思考,纔能完全消化其中關於微觀形貌控製的細節。
評分這本書的價值在於,它成功地將一個極其龐大且跨學科的製造體係,拆解成瞭若乾個邏輯清晰、相互關聯的模塊。我個人認為,它最大的亮點在於對“量測與反饋”機製的強調。在介紹完諸如薄膜沉積、離子注入這些“輸入”環節後,書中專門闢齣瞭一大部分篇幅來詳細闡述如何通過橢偏儀、掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)等工具來獲取精確的反饋數據。更有意思的是,它還探討瞭這些量測數據如何被算法處理,並自動調整到下一批次的工藝參數中去——也就是所謂的“工藝控製迴路”。這一點恰恰是很多隻關注“製作”而不關注“控製”的書籍所缺乏的。它讓我意識到,現代芯片製造的精髓已不再是簡單地執行步驟,而是一個持續優化的動態過程。讀完此書,我感覺自己對芯片生産鏈的理解不再是綫性的,而是立體的,能夠看到各個流程之間相互製約、相互影響的復雜動態關係,這對於進行工藝集成設計具有極強的指導意義。
評分坦白講,這本書的排版和插圖質量,相較於一些最新的國際齣版物,顯得略微傳統瞭一些,黑白圖居多,色彩豐富度不高。但這似乎並不影響其內容的權威性和實用性。我特彆欣賞作者在描述新一代技術節點時所持有的批判性態度。比如,在討論極紫外光刻(EUV)時,書中清晰地指齣瞭光刻膠分辨率、掩模缺陷以及光刻膠厚度均勻性帶來的多重挑戰,而不是一味地渲染EUV技術的優越性。這種實事求是的態度,使得讀者能夠更清醒地認識到技術發展的復雜性和現有瓶頸。書中對材料科學的交叉引用非常豐富,當你閱讀到某個特定工藝步驟時,總能找到指嚮相關材料特性分析的章節鏈接,形成瞭一個相互印證的網絡,而不是孤立的知識點。總而言之,這是一本非常“硬核”的技術參考書,它要求讀者具備一定的工程背景,但一旦進入狀態,它所提供的深度和廣度,絕對能幫助從業者或高年級學生構建起一個堅實、全麵的集成電路製造知識框架,特彆是對那些需要跨工藝領域進行故障排查的人員來說,價值巨大。
評分這本書的封麵設計得非常樸實,米白色的封麵上印著深藍色的書名,字體工整卻不失穩重。我原本以為這會是一本側重於理論推導和復雜數學模型的教科書,畢竟“集成電路製造技術”聽起來就不是什麼輕鬆的話題。然而,當我翻開第一章時,我發現作者似乎非常注重將深奧的原理與實際操作緊密結閤。比如,在介紹光刻膠的塗覆工藝時,書中詳細描述瞭滾塗和噴塗的不同優缺點,甚至配上瞭清晰的工藝流程圖,讓我這個初學者也能大緻勾勒齣整個步驟。它沒有過多地陷入對量子力學在半導體材料中如何錶現的純理論探討,而是更傾嚮於描述“為什麼我們要用這種特定的化學品”以及“在實際的潔淨室環境中,如何控製濕度和溫度以確保塗層均勻”。書中對不同材料的介紹也很有條理,從矽片的製備到薄膜的沉積,每一步的過渡都顯得非常自然。讀起來感覺就像是跟隨一位經驗豐富、耐心十足的工程師在車間裏進行一次詳細的導覽,而不是枯燥地背誦公式。尤其欣賞它對良率提升的關注,很多章節都在強調工藝參數微小變化對最終産品性能的影響,這體現瞭作者對工程實踐的深刻理解。
評分這本書的敘述風格給我一種非常“工程師美學”的感覺,簡潔、精確,幾乎沒有多餘的修飾詞匯。它的結構安排得極有邏輯性,仿佛是按照一個真實晶圓的加工路綫圖來組織的。例如,在講完薄膜沉積之後,緊接著就是刻蝕工藝的講解,這種前後銜接的緊密性讓人在閱讀時能夠建立起清晰的“製造鏈條”概念。我特彆留意瞭其中關於離子注入的部分,書中不僅解釋瞭摻雜劑的種類和作用,還用瞭好幾頁篇幅來討論注入能量的選擇對源/漏區側壁尖銳度的影響,這在很多入門級書籍中是被一帶而過的關鍵細節。它深入到瞭“為什麼”的層麵,而不是僅僅停留在“是什麼”。不過,對於完全沒有半導體基礎的讀者來說,開篇可能稍微有些陡峭,比如第一次提到“弛豫時間”和“空穴遷移率”時,如果讀者沒有預先閱讀過相關的固體物理導論,可能會感到信息量過載。但我認為,對於目標讀者群體——那些希望快速上手或加深對製造流程理解的專業人士而言,這種直給的深度反而是優點,它節省瞭大量時間,直接切入核心技術環節。
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