材料科學與應用進展·納米結構的薄膜和塗層：功能特性（導讀版） [Nanostructured Thin Films and Coatings Functional Properties] 下載 mobi epub pdf 電子書 2024

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　　 《材料科學與應用進展·納米結構的薄膜和塗層：功能特性（導讀版）》涵蓋瞭薄膜及塗層技術領域的研究進展及其功能性能方麵的應用。
　　 各章的作者均為各自研究領域前沿的研究人員。
　　 包含大量圖片、錶格等，便於讀者理解相關內容。
　　 適閤復閤材料、化學化工、環境等領域的師生、科研人員閱讀參考。

內容簡介

　　 《材料科學與應用進展·納米結構的薄膜和塗層：功能特性（導讀版）》著重討論瞭薄膜的功能特性（例如，光學、電子、電學特性等），同時介紹瞭相應的器件及應用。《材料科學與應用進展·納米結構的薄膜和塗層：功能特性（導讀版）》首先介紹功能薄膜大尺度製作與加工的化學途徑，納米復閤材料薄膜的製作與錶徵。其次講解瞭低維納米復閤材料的製作及其應用，矽納米晶的光學和光電子學特性。最後介紹瞭可控微／納米結構薄膜和器件，微係統應用的薄膜形狀記憶閤金等內容。
　　 《材料科學與應用進展·納米結構的薄膜和塗層：功能特性（導讀版）》內容十分全麵，不僅包含適閤新入門者的對於細節的解釋，也包括適閤專傢的新前沿研究進展及資料。書中涵蓋寬廣範圍的機械及功能技術，包括其在清潔能源領域的應用，這有助於研究並便於專業人員對這一迅速發展的領域有全麵的瞭解和把握。

目錄

前言
編者
貢獻者
1 利用化學途徑藉由納米構築實現功能薄膜的大尺度製作與加工
2 SiC納米結構／納米復閤材料薄膜的製備和錶徵
3 低維納米復閤材料的製備和應用
4 嵌入Si02基體中的矽納米晶的光學和光電子學特性
5 嵌入非晶態Si02薄膜中的矽納米晶的電學性能
6 溶膠凝膠法得到的納米結構薄膜的性質和應用：光學領域
7 可控微／納米結構薄膜和器件
8 微係統應用的薄膜形狀記憶閤金
索引

精彩書摘

Top-down approaches consist of either using macroscopic tools to directly "write" materials on a substrate， or using macroscopic tools to transfer a computer-generated pattern onto the thin film material， and then "sculpting" a nanostructure by physically removing material （e.g.， by etching techniques）. It should be noted that either the solution/material to be used in the printing techniques， or the films to be "sculpted" may be prepared via sol-gel.
The former case includes scanning tunneling microscopy （STM）， scanning probe lithography （SPL）， nanoimprint lithography （NIL）， and microcontact printing uCP）. STM allows the position of individual atoms to pattern structures with subnanometer precision， and SPL leads to features as small as 15 nm. uCP allows conformal contact between the stamp and the substrate for a range of topologies， including curved substrates/inner surfaces， due to the mechanical flexibility of the rubbery stamp. The imprinting device used in the NIL approach can be reused numerous times， leading to cost-effective， sub-100nm lithographic replication; however， the initial fabrication of the ultrahigh-resolution master molds remains very difficult to attain. It should be noted that these techniques， which allow the patterning of structures with nanometer precision， are neither cost- nor time-effective.62
The most common techniques used in the latter case （"sculpting" a nanostructure） are based on photolithography， which is unfortunately limited by optical diffraction effects to 200-500nm， and nanolitography （electron- and ion-based methods）， which already allow the preparation of ordered nanostructured arrays with high resolution， but have low throughput， since they consist of a lineby-line pattern.
……

前言/序言

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