真空科學技術叢書：真空鍍膜 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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李雲奇 著

圖書標籤:

• 真空技術
• 真空鍍膜
• 材料科學
• 錶麵工程
• 薄膜技術
• 物理氣相沉積
• PVD
• 鍍膜工藝
• 真空設備
• 科學技術

齣版社： 化學工業齣版社

ISBN：9787122127808

版次：1

商品編碼：11064818

包裝：平裝

叢書名： 真空科學技術叢書

開本：16開

齣版時間：2012-08-01

用紙：膠版紙

頁數：310

正文語種：中文

內容簡介

　　 《真空科學技術叢書：真空鍍膜》是本著突齣近代真空鍍膜技術進步，注重係統性、強調實用性而編著的。全書共11章，內容包涵瞭真空鍍膜中物理基礎，各種蒸發源與濺射靶的設計、特點、使用要求，各種真空鍍膜方法以及薄膜的測量與監控，真空鍍膜工藝對環境的要求等。本書具有專業性、實用性和通用性。
　　 《真空科學技術叢書：真空鍍膜》可作為從事真空鍍膜技術的技術人員、真空專業的本科生、研究生教材使用，亦可供鍍膜、錶麵改型等專業和真空行業技術人員參考。

目錄

第1章真空鍍膜概論
1.1概述
1.2影響固體錶麵結構、形貌及其性能的因素
1.2.1原子和分子構成固體物質
1.2.2多晶體物質結構
1.2.3材料受到的各種應力負荷
1.2.4材料加工所帶來的缺陷
1.2.5基片錶麵塗敷硬質薄膜的必要性
1.3真空鍍膜及其工藝特點和應賦予塗層的功能
1.4薄膜的特徵
1.4.1薄膜的結構特徵
1.4.2金屬薄膜的電導特徵
1.4.3金屬薄膜電阻溫度係數特徵
1.4.4薄膜的密度特徵
1.4.5薄膜的時效變化特徵
1.5薄膜的應用
1.5.1電子工業用薄膜
1.5.2光學工業中應用的各種光學薄膜
1.5.3機械、化工、石油等工業中應用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜
1.5.4有機分子薄膜
1.5.5民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜
1.6真空鍍膜的發展曆程及最新進展
參考文獻
第2章真空鍍膜技術基礎
2.1真空鍍膜物理基礎
2.1.1真空及真空狀態的錶徵和測量
2.1.2氣體的基本性質
2.1.3氣體的流動與流導
2.1.4氣體分子與固體錶麵的相互作用
2.2真空鍍膜低溫等離子體基礎
2.2.1等離子體及其分類與獲得
2.2.2低氣壓下氣體的放電
2.2.3低氣壓下氣體放電的類型
2.2.4低氣壓下冷陰極氣體輝光放電
2.2.5低氣壓非自持熱陰極弧光放電
2.2.6低氣壓自持冷陰極弧光放電
2.2.7磁控輝光放電
2.2.8空心冷陰極輝光放電
2.2.9高頻放電
2.2.10等離子體宏觀中性特徵及其中性空間強度的判彆
2.3薄膜的生長與膜結構
2.3.1膜的生長過程及影響膜生長的因素
2.3.2薄膜的結構及其結構缺陷
2.4薄膜的性質及其影響因素
2.4.1薄膜的力學性質及其影響因素
2.4.2薄膜的電學性質
2.4.3薄膜的光學性質及其影響膜摺射率的因素
2.4.4薄膜的磁學性質
參考文獻
第3章蒸發源與濺射靶
3.1蒸發源
3.1.1蒸發源及其設計與使用中應考慮的問題
3.1.2電阻加熱式蒸發源
3.1.3電子束加熱式蒸發源
3.1.4空心熱陰極等離子體電子束蒸發源
3.1.5感應加熱式蒸發源
3.1.6激光加熱式蒸發源
3.1.7輻射加熱式蒸發源
3.1.8蒸發源材料
3.1.9蒸發源的發射特性及膜層的厚度分布
3.2濺射靶
3.2.1濺射靶的結構及其設計要求
3.2.2濺射靶材
參考文獻
第4章真空蒸發鍍膜
4.1真空蒸發鍍膜技術
4.1.1真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件
4.1.2薄膜材料
4.1.3閤金膜的蒸鍍
4.1.4化閤物膜的蒸鍍
4.1.5影響真空蒸鍍性能的因素
4.2分子束外延技術
4.2.1分子束外延生長的基本原理與過程
4.2.2分子束外延生長的條件、製備方法與特點
4.2.3分子束外延生長參數選擇
4.2.4影響分子束外延的因素
4.2.5分子束外延裝置
4.3真空蒸發鍍膜設備
4.3.1真空蒸發鍍膜機的類型及其結構
4.3.2真空蒸發鍍膜機中的主要構件
4.4真空蒸發塗層的製備實例
4.4.1真空蒸鍍鋁塗層
4.4.2真空蒸鍍Cd(Se，S)塗層
4.4.3真空蒸鍍ZrO2塗層
4.4.4分子束外延生長金單晶塗層
參考文獻
第5章真空濺射鍍膜
5.1真空濺射鍍膜的復興與發展
5.2真空濺射鍍膜技術
5.2.1真空濺射鍍膜的機理分析及其濺射過程
5.2.2靶材粒子嚮基體上的遷移過程
5.2.3靶材粒子在基體上的成膜過程
5.2.4濺射薄膜的特點及濺射方式
5.2.5直流濺射鍍膜
5.2.6磁控濺射鍍膜
5.2.7射頻濺射鍍膜
5.2.8反應濺射鍍膜
5.2.9中頻濺射與脈衝濺射鍍膜
5.2.10對嚮靶等離子體濺射鍍膜
5.2.11偏壓濺射鍍膜
5.3真空濺射鍍膜設備
5.3.1間歇式真空濺射鍍膜機
5.3.2半連續磁控濺射鍍膜機
5.3.3大麵積連續式磁控濺射鍍膜設備
參考文獻
第6章真空離子鍍膜
6.1真空離子鍍膜及其分類
6.2離子鍍膜原理及其成膜條件
6.3離子鍍膜過程中等離子體的作用及到達基體入射的粒子能量
6.4離子轟擊在離子鍍過程中産生的物理化學效應
6.5離化率與中性粒子和離子的能量及膜層錶麵上的活化係數
6.5.1離化率
6.5.2中性粒子所帶的能量
6.5.3離子能量
6.5.4膜層錶麵的能量活化係數
6.6離子鍍塗層的特點及其應用範圍
6.7離子鍍膜的參數
6.7.1鍍膜室的氣體壓力
6.7.2反應氣體的分壓
6.7.3蒸發源功率
6.7.4蒸發速率
6.7.5蒸發源和基體間的距離
6.7.6沉積速率
6.7.7基體的負偏壓
6.7.8基體溫度
6.8離子鍍膜裝置及常用的幾種鍍膜設備
6.8.1直流二極、三極及多極型離子裝置
6.8.2活性反應離子鍍裝置
6.8.3空心陰極放電離子鍍膜裝置
6.8.4射頻放電離子鍍裝置
6.8.5磁控濺射離子鍍膜裝置
6.8.6真空陰極電弧離子鍍膜裝置
6.8.7冷電弧陰極離子鍍膜裝置
6.8.8熱陰極強流電弧離子鍍裝置
參考文獻
第7章離子束沉積與離子束輔助沉積
7.1離子束沉積技術
7.1.1離子束沉積原理及特點
7.1.2直接引齣式離子束沉積技術
7.1.3質量分離式離子束沉積技術
7.1.4離化團束沉積技術
7.1.5等離子體浸沒式沉積技術
7.1.6氣固兩用離子束沉積技術
7.2離子束輔助沉積技術
7.2.1離子束輔助沉積過程的機理
7.2.2離子束輔助沉積的方式及其能量選擇範圍
7.2.3離子束輔助沉積技術的特點
7.2.4離子束輔助沉積裝置
7.2.5微波電子迴鏇等離子體增強濺射沉積裝置
7.2.6離子源
參考文獻
第8章化學氣相沉積
8.1概述
8.2CVD技術中的各類成膜方法及特點
8.3CVD技術的成膜條件及其反應類型
8.3.1CVD反應的條件
8.3.2CVD技術的反應類型
8.4化學氣相沉積用先驅反應物質的選擇
8.5影響CVD沉積薄膜質量的因素
8.5.1沉積溫度對膜質量的影響
8.5.2反應氣體濃度及相互間的比例對膜質量的影響
8.5.3基片對膜質量的影響
8.6常壓化學氣相沉積技術與裝置
8.6.1常壓CVD技術的一般原理
8.6.2常壓的CVD裝置
8.7低壓化學氣相沉積(LPCVD)
8.7.1LPCVD的原理及特點
8.7.2LPCVD裝置的組成
8.7.3LPCVD製備塗層的實例
8.8等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)
8.8.1PECVD的成膜過程及特點
8.8.2PECVD裝置
8.8.3PECVD薄膜的工藝實例
8.9金屬有機化閤物化學氣相沉積(MOCVD)
8.10光輔助化學氣相沉積(PHCVD)
參考文獻
第9章薄膜的測量與監控
9.1概述
9.2薄膜厚度的測量
9.2.1薄膜厚度的光學測量法
9.2.2薄膜厚度的電學測量法
9.2.3薄膜厚度的機械測量法
9.3薄膜應力的測量
9.3.1基片變形法
9.3.2衍射法
9.4薄膜的附著力測量
9.4.1膠帶剝離法
9.4.2拉倒法
9.4.3拉張法
9.4.4劃痕法
9.5薄膜的硬度測量
9.5.1維氏硬度
9.5.2努氏硬度
9.6薄膜的光譜特性測量
參考文獻
第10章薄膜性能分析
10.1概述
10.2電子作用於固體錶麵上所産生的各種效應
10.2.1背散射電子
10.2.2二次電子
10.2.3吸收電子和透射電子
10.2.4俄歇電子
10.2.5特徵X射綫
10.2.6陰極熒光
10.2.7電子束感生電流
10.3離子作用於固體錶麵所産生的效應
10.3.1一次離子的錶麵散射
10.3.2反嚮散射離子
10.3.3正負二次電子
10.4光子作用於固體錶麵所産生的效應
10.4.1波長較短的X射綫
10.4.2波長較長的X射綫
10.5薄膜形貌觀察與結構分析
10.5.1光學顯微鏡
10.5.2掃描電子顯微鏡
10.5.3透射電子顯微鏡
10.5.4X射綫衍射儀
10.5.5低能電子衍射和反射式高能電子衍射
10.5.6掃描探針顯微鏡
10.6薄膜組成分析
10.6.1俄歇電子能譜儀
10.6.2二次離子質譜分析儀
10.6.3盧瑟福背散射分析儀
10.6.4X射綫光電子能譜儀
參考文獻
第11章真空鍍膜技術中的清潔處理
11.1概述
11.2真空鍍膜設備的清潔處理
11.2.1真空鍍膜設備汙染物的來源及清潔處理
11.2.2真空鍍膜設備真空係統的清洗處理
11.3真空鍍膜設備的環境要求
11.4真空鍍膜工藝對環境的要求
11.4.1真空鍍膜工藝對環境的基本要求
11.4.2基片錶麵汙染物來源及清潔處理
11.5鍍件錶麵處理的基本方法
11.6真空鍍膜常用材料的清洗方法
11.7真空鍍膜設備型號編製方法、試驗方法
11.7.1真空設備型號編製方法（JB/T 7673—1995）
11.7.2真空鍍膜設備通用技術條件（摘自GB/T 11164—99）
參考文獻

前言/序言

真空科學技術是現代科學技術中應用最為廣泛的高技術之一。製備超純材料需要超高真空技術，太陽能薄膜電池及芯片製作需要清潔真空技術，航天器空間環境地麵模擬設備需要大型真空容器技術。真空科學技術已滲透到人們的教學、科研、生産過程、經濟活動以及日常生活中的方方麵麵，人們普遍認識到瞭真空科學技術的重要性。
真空科學技術是一門涉及多學科、多專業的綜閤性應用技術，它吸收瞭眾多科學技術領域的基礎理論和最新成果，使自己不斷地進步和發展。真空科學技術的應用標誌著國傢科學和工業現代化的水平，大力發展真空科學技術是振興民族工業，實現國傢現代化的基本齣發點。
多年來，黨和國傢政府非常重視發展真空科學技術。大學設立瞭真空科學技術專業，培養高層次真空專業人纔；興辦真空企業，設計、製造真空産品；成立真空科學技術研究所開發新技術，提高真空應用水平；建立瞭相當規模和水平的真空教學、科研和生産體係；獨立自主地生産齣各種真空産品，滿足瞭各行業的需求，推動瞭社會主義經濟的發展。
在取得豐碩的物質成果和經濟效益的同時，真空科技人員積纍瞭寶貴的理論認知和實踐經驗。在和真空科學技術摸、爬、滾、打的漫長歲月中，一大批人以畢生的精力，辛勤的勞動親身經曆瞭多少次失敗的痛苦和成功的喜悅。通過深刻的思考與精心的整理換得瞭大量的實踐經驗，這些付齣瞭昂貴代價得來的知識是書本上難以學到的。經曆瞭半個世紀滄桑歲月，當年風華正茂的真空科技工作者均年事已高，霜染鬢須，退居二綫。唯一的希望是將自己積纍的知識、技能、經驗、教訓通過文字載體傳承給新一代的後來人，使他們能夠在前人搭建的較高平颱上工作。基於這一考慮，在蘭州物理研究所支持下，我們聚集在一起，成立瞭《真空科學技術叢書》編寫委員會，由全國高等院校、科研院所及企業中長期從事真空科學技術研製工作的工程技術人員組成。編寫一套《真空科學技術叢書》，係統的、完整的從真空科學技術的基本理論齣發，重點敘述應用技術及應用的典型例證。這套叢書分專業、分學科門類編寫，強調係統性、理論性和實用性，避免重復性。這套叢書的齣版是我國真空科學技術工作者大力閤作的成果，匯集瞭我國真空科學技術發展的經驗，希望這套叢書對21世紀我國真空科學技術的進步和發展起到推動作用，為實施科教興國戰略做齣貢獻。
這套叢書像流水一樣持續不斷，是不封閉的係列叢書，隻要有相關著作就可以陸續納入這套叢書齣版。《叢書》可供大專院校師生，科學研究人員，工業、企業技術人員參考。
這套叢書成立瞭編寫委員會，設主編、副主編及參編人員、技術編輯等，由化學工業齣版社齣版發行。部分真空界企業提供瞭資助，作者、審稿者、編輯等付齣瞭辛勤勞動，在此一並錶示衷心感謝。
達道安
2012年03月22日

真空科學技術叢書：真空泵與真空係統設計 叢書主編： [此處可填入資深專傢姓名，以增加權威性] 本書簡介 本書是“真空科學技術叢書”中的重要一捲，專注於真空泵的原理、設計、選型、應用及整個真空係統的集成與優化。在現代工業、科研、國防等各個尖端領域，對高真空乃至超高真空環境的需求日益迫切，而實現這些環境的基石，正是高效、可靠的真空獲得與維持技術。本書旨在為工程師、科研人員以及相關專業學生提供一本全麵、深入且具有極高實踐指導價值的參考手冊。 第一部分：真空基礎理論與測量迴顧 在深入探討真空泵技術之前，本書首先對真空科學的基礎概念進行瞭係統性的迴顧與深化。 1.1 氣體動力學與真空狀態： 詳細闡述瞭氣體分子運動論在低壓條件下的適用性，引入分子流、過渡流和粘性流的判定標準，明確瞭不同壓力區間的物理特性差異。 1.2 真空度的量度與標準： 嚴格界定瞭托（Torr）、帕斯卡（Pa）、毫巴（mbar）等單位之間的換算關係，重點分析瞭國際真空標準（如ISO/IEC標準）對真空度等級（低、中、高、超高真空）的劃分及其意義。 1.3 真空測量技術： 全麵覆蓋瞭從大氣壓到超高真空範圍內的真空計。 粗真空與中真空測量： 詳細分析瞭皮拉尼計（Pirani Gauge）和電容式真空計的結構、工作原理、綫性度誤差、溫度漂移校準方法。 高真空與超高真空測量： 深入探討瞭基於分子動理論的規程規（Thermocouple Gauge）、磁流體真空計（Magnetron Gauge）以及基於電離原理的對數型離子規（Ion Gauge）。特彆指齣瞭解析超高真空時，殘餘氣體分析（RGA）在識彆汙染物和優化泵送策略中的不可替代的作用。 第二部分：各類真空泵的原理與性能分析 本書的核心內容聚焦於兩大類真空泵的原理剖析、結構特點、優缺點對比及適用工況分析。 A. 有效容積式（位移式）真空泵： 2.1 往復式真空泵（Rotor Pumps）： 液環泵（Liquid Ring Pumps）： 詳細解析瞭液環的形成機製、氣體力學過程，重點討論瞭對工作液的選擇（水、油、化學惰性液體）及其對極限真空度和抗濕氣、溶劑能力的影響。 鏇片式真空泵（Rotary Vane Pumps）： 深入剖析瞭單級和雙級鏇片泵的結構，特彆是對油封、油泵和密封件的設計要求。著重分析瞭油汙染、油乳化現象對泵效和極限真空度的影響，並提供瞭油水分離和油品維護的最佳實踐。 2.2 隔膜泵與波紋管泵： 針對對無油（Clean Vacuum）環境要求的應用，如質量分析儀、半導體工藝前級，詳細分析瞭其膜片材料選擇（如特氟龍、哈氏閤金）的耐腐蝕性、疲勞壽命及對脈衝流動的抑製技術。 B. 氣流輸運式真空泵： 2.3 擴散泵（Diffusion Pumps）： 盡管應用場景有所變化，擴散泵仍是高真空應用的基礎。 多級蒸汽噴射機製： 詳細解析瞭蒸汽噴射器中氣體分子與工作流體分子的碰撞、混閤與反嚮擴散過程，推導瞭泵速與喉口幾何形狀的關係。 工作流體選擇與局限性： 對矽油、高分子油（如萘基醚類）的蒸汽壓、耐溫性、抗反流特性進行瞭對比，並闡述瞭在電子束設備中應用擴散泵時，必須配套使用冷阱（Cold Traps）以防止油蒸汽汙染。 2.4 機械增壓泵（Booster Pumps）： 羅茨泵（Roots Blower）： 深入研究瞭其葉輪間的同步嚙閤原理、氣密性設計（如軸封、側闆間隙控製），並重點分析瞭其如何與前級鏇片泵進行有效串聯，以實現對大氣到中高真空範圍的快速抽除。強調瞭熱負荷管理和轉速控製對泵性能和壽命的重要性。 2.5 低溫泵（Cryopumps）： 兩級製冷循環： 詳細解釋瞭G-M（脈衝管）製冷機的工作原理，及其如何為不同溫度的冷屏（如20K、77K、10K）提供穩定溫區。 吸附與凝結機製： 分析瞭不同氣體在不同溫度下的凝結係數，特彆關注瞭氦氣和氫氣在高真空環境中的處理策略，包括活化（Regeneration）過程的優化與殘餘氣體對泵錶麵的影響。 2.6 分子泵（Turbomolecular Pumps）： 這是實現超高真空的關鍵。 動量傳遞理論： 從分子撞擊角度闡述瞭轉子和定子葉片對氣體分子的有效“推擠”作用，並推導瞭泵速與葉片幾何角度、轉速的非綫性關係。 軸承技術： 詳盡比較瞭機械軸承與磁懸浮軸承（主動與被動）的優劣。重點分析瞭磁懸浮技術如何消除機械磨損、實現無油運行，以及其對電磁乾擾的抑製技術。 第三部分：真空係統集成與優化設計 本書超越瞭單一設備的介紹，轉嚮係統工程的層麵，指導讀者如何構建高效、穩定的真空係統。 3.1 真空係統設計規範： 闡述瞭係統設計流程：確定工藝需求真空度、氣體負荷估算、選擇泵組閤（串聯、並聯、冗餘）。 3.2 關鍵組件的選型與接口： 真空法蘭與密封技術： 詳述瞭KF（快裝）、CF（對焊/Conflat）法蘭的標準、安裝程序、密封圈材料（如退火銅墊片、鎳墊片）的選擇，以及實現超高真空所需的扭矩控製標準。 真空閥門控製： 分析瞭蝶閥、球閥、截止閥、節流閥的工作原理及其在係統分區、隔離汙染源方麵的應用策略。強調瞭殘餘氣體吸附與放氣率對係統極限真空時間的影響。 3.3 抽氣時間與泵速計算： 提供瞭係統的瞬態抽氣方程，包括考慮初始壓力、漏率、放氣負荷、以及不同泵組閤的等效總泵速計算方法。詳細論述瞭如何通過控製增壓泵的運行來優化整體抽氣麯綫。 3.4 係統維護與故障診斷： 提供瞭基於真空計讀數變化的常見故障分析流程圖（如：某一壓力點讀數異常升高、極限真空度無法達到）。重點講解瞭漏氣檢測技術（氦質譜檢漏儀的操作規範、壓力衰減法）和錶麵放氣汙染的清除技術（烘烤程序設計、等離子清洗）。 總結 本書力求成為真空工程領域的“工具箱”，不僅解釋瞭“是什麼”和“為什麼”，更重要的是提供瞭“怎麼做”的詳細藍圖。通過對不同真空泵技術的深入剖析和對復雜係統集成的實踐指導，確保讀者能夠獨立設計、操作和維護滿足從精密光學鍍膜到粒子加速器等各種嚴苛要求的真空環境。

評分☆☆☆☆☆

我最近剛拜讀完《微納結構製造中的精密控製》，它與真空鍍膜的主題雖然不同，但那種對“精度”的極緻追求是共通的。這本書聚焦於如何通過納米尺度的工藝控製，實現宏觀功能的精確調控。它沒有過多涉及真空環境本身，而是著重講解瞭光刻、刻蝕、原子層沉積（ALD）等一係列“堆積”和“去除”技術中的反饋迴路設計。我特彆喜歡它對實時在綫監測係統（In-situ Monitoring）的論述，書中詳細介紹瞭如何利用橢偏儀、石英晶體振蕩器等工具，對沉積過程進行皮秒級的監控和反饋修正。這簡直是為那些對膜厚均勻性和錶麵粗糙度有苛刻要求的半導體和MEMS行業讀者量身定製的指南。相比於一些流程化的手冊，這本書更像是一位資深工程師在手把手教你如何建立一個“自適應”的製造平颱。讀完後，我開始重新審視我們車間現有的質量控製流程，意識到我們對“均勻性”的定義可能過於保守，錯失瞭通過動態調整來提升良率的機會。對於追求極緻工藝穩定性的技術人員來說，這本書提供的控製理論是無價之寶。

評分☆☆☆☆☆

那本《高分子材料的界麵行為與老化機製》給瞭我完全不同的視角。雖然我的工作背景偏嚮於無機材料和物理沉積，但這本書讓我意識到，很多“鍍膜”失敗的案例，根源其實在於與基體材料的相容性問題。這本書沒有太多的工程圖紙或設備參數，它完全是基於物理化學和熱力學原理來分析的。它詳盡地描述瞭高分子鏈段的運動性、錶麵能的動態變化，以及在不同溫度和濕度環境下，界麵處發生的分子重排和水汽滲透路徑。特彆是關於濕熱老化對聚閤物界麵粘接性能的長期影響的章節，它用動態力學分析（DMA）數據清晰地展示瞭塑料基材在長期服役中硬度的下降如何直接導緻鍍膜層微裂紋的産生。這讓我開始思考，我們是否應該更關注基材在設備內部長時間工作環境下的老化趨勢，而不是僅僅關注沉積那一刻的附著力測試。這是一本需要靜下心來仔細研讀的理論著作，它拓寬瞭我們對“錶麵工程”內涵的理解，使其從單純的物理堆積擴展到瞭材料科學的廣闊領域。

評分☆☆☆☆☆

最近翻閱的一本關於“極端環境材料設計”的專著，雖然範圍更廣，但其中關於抗輻照和抗腐蝕塗層設計的章節，與真空鍍膜技術有著天然的聯係。這本書的風格非常宏大且具有前瞻性，它探討的是航天器、核反應堆等領域對材料的極限要求。它深入討論瞭如何利用非晶態或梯度結構來分散能量和阻礙裂紋擴展的機製。例如，它描述瞭一種多層阻尼結構，通過在不同硬度層之間引入具有特定晶格缺陷的過渡層，有效降低瞭高能粒子轟擊下的材料損傷率。雖然書中涉及的材料體係（如高溫超閤金或陶瓷基復閤材料）可能比一般真空鍍膜接觸的要復雜得多，但其核心的設計思想——即通過結構設計來控製界麵能量的耗散——是完全相通的。這本書激發瞭我思考，我們是否可以將一些在極端環境材料中驗證過的梯度設計理念，反過來應用到改善普通工業鍍膜層的耐磨性和抗疲勞性能上，為鍍膜工藝的未來發展指明瞭一個更具挑戰性的方嚮。

評分☆☆☆☆☆

這本《真空科學技術叢書：真空鍍膜》的姊妹篇，《材料錶麵改性技術》，實在是一本讓人茅塞頓開的寶藏。我原本對錶麵工程的理解還停留在比較初級的階段，主要關注塗層的基本概念。然而，這本書深入剖析瞭從等離子體激發、離子束輔助沉積到各種化學氣相沉積（CVD）和物理氣相沉積（PVD）方法的機理與優化。尤其讓我印象深刻的是它對薄膜應力與界麵結閤力的定量分析部分。作者沒有滿足於描述現象，而是用大量的實驗數據和理論模型，解釋瞭為什麼某些特定工藝條件下，薄膜容易齣現剝落或開裂。書中詳細對比瞭不同基底材料與薄膜材料的晶格失配度對宏觀性能的影響，這為我後續在設計高精度光學元件塗層時，提供瞭一套全新的、更具預見性的設計思路。它不是一本隻講“怎麼做”的書，它更側重於“為什麼會這樣”，這種深度讓我在麵對復雜的工藝問題時，能夠迅速定位到問題的根源，而不是盲目地調整設備參數。閱讀過程中，我甚至發現瞭一些此前行業內流傳的“經驗之談”其實在更嚴格的物理模型下存在瑕疵，這本書的嚴謹性可見一斑。

評分☆☆☆☆☆

我近期閱讀的另一本技術手冊，《先進光學薄膜的計量與錶徵》，可以說是與真空鍍膜工作緊密相關，但側重點完全不同。如果說真空鍍膜講的是“如何做”，這本書就是嚴謹地迴答“做成瞭什麼樣”。它係統地梳理瞭從透射光譜分析（測量增益和相位延遲）到X射綫光電子能譜（XPS，分析化學態和元素分布）的全套錶徵流程。書中對於布魯格-雪勒峰（Scherrer equation）在確定納米晶粒尺寸時的適用條件進行瞭非常細緻的辨析，這對於區分鍍膜層是緻密層還是多孔結構至關重要。我尤其欣賞它對“測量不確定度”的強調，它教會瞭我如何科學地報告測試結果，而不是簡單地給齣一個孤立的數值。對於需要進行産品認證或與國際標準對標的工程師而言，這本書提供的標準操作流程（SOP）和誤差分析方法論，是直接可以投入使用的工具箱。它極大地提升瞭我對測量結果的批判性解讀能力。

評分☆☆☆☆☆

書角破瞭，質量很好

評分☆☆☆☆☆

不錯

評分☆☆☆☆☆

看起來還不錯。為什麼必須得10個字？

評分☆☆☆☆☆

很實用~

評分☆☆☆☆☆

不錯喲

評分☆☆☆☆☆

內容包涵瞭真空鍍膜中物理基礎

評分☆☆☆☆☆

真空科學技術是一門涉及多學科、多專業的綜閤性應用技術，它吸收瞭眾多科學技術領域的基礎理論和最新成果，使自己不斷地進步和發展。真空科學技術的應用標誌著國傢科學和工業現代化的水平，大力發展真空科學技術是振興民族工業，實現國傢現代化的基本齣發點。

評分☆☆☆☆☆

東西不錯，也很便宜，就是調貨太慢瞭，我6月7號下的單，到11號纔齣庫，13號纔送到，速度實在太慢

評分☆☆☆☆☆

很實用