内容简介
     From discussions with students working in the field of nanoelectronics and quantum effects in nanostructures I have leamed that many fundamental surface science concepts such as charging character of surface and interface states, Fernu-Ievel pinning have been forgotten over the years or not taught in an adequate way. Since these concepts are of paramount importance for research on semiconductor nanostructures Itried to deepen and extend these topics in the present edition.     
内页插图
          目录
   1 Surface and Interface Physics: Its Definition and Importance
Panel Ⅰ: Ultrahigh Vacuum (UHV) Technology
Panel Ⅱ: Basics of Particle Optics and Spectroscopy
Problems
2 Preparation ofWell-Defined Surfaces,lnterfaces and Thin Films
2.1 Why Is Ultrahigh Vacuum Used?
2.2 Cleavage in UHV
2.3 Ion Bombardment and Annealing
2.4 Evaporation and Molecular Beam Epitaxy (MBE)
2.5 Epitaxy by Means of Chemical Reactions
Panel Ⅲ: Auger Electron Spectroscopy (AES)
Panel Ⅳ:Secondary Ion Mass Spectroscopy (SIMS)
Problems
3 Morphology and Structure ofSurfaces,lnterfaces and Thin Films
3.1 Surface Stress, Surface Energy, and Macroscopic Shape
3.2 Relaxation, Reconstruction, and Defects
3.3 Two-Dimensional Lattices, Superstructure, and Reciprocal Space
3.3.1 Surface Lattices and Superstructures
3.3.2 2D Reciprocal Lattice
3.4 Structural Models of Solid-Solid Interfaces
3.5 Nucleation and Growth of Thin Films
3.5.1 Modes of Film Growth
3.5.2 "Capillary Model" of Nucleation
3.6 Film-Growth Studies: Experimental Methods and Some Results
Panel V: Scanning Electron Microscopy (SEM) and Microprobe Techniques
Panel VI: Scanning Tunneling Microscopy (STM)
PaneI VII:Surface Extended X-Ray Absorption Fine Structur (SEXAFS)
Problems
……
4 Scattering from Surfaces and Thin Films
5 Surface Phonons
6 Electronic Surface States
7 Space-Charge Layers at Semiconductor Interfaces
8 Metal-Semiconductor Junctions and Semiconductor Heterostructures
9 Collective Phenomena at Interfaces: Superconductivity and Ferromagnetism
10 Adsorption on Solid Surfaces
References
Index      
前言/序言
       
				 
				
				
					固体表面、界面与薄膜(第5版)  一本全面深入的科学专著,聚焦于物质表层的物理与化学现象  《固体表面、界面与薄膜(第5版)》是一部权威性的科学著作,旨在系统地、深入地探讨固体表面、界面以及薄膜的结构、性质、形成机理及其在现代科技中的应用。本书内容横跨凝聚态物理、材料科学、化学、电子工程等多个学科领域,为研究人员、工程师和高年级学生提供了一个全面而扎实的知识框架。  核心内容聚焦:从原子尺度到宏观性能的桥梁  本书的结构设计清晰,逻辑严谨,以递进的方式阐述了固体表面科学的核心概念和前沿进展。全书内容主要围绕以下几个相互关联的核心主题展开:  第一部分:表面与界面的基本原理  本部分首先为读者奠定了坚实的理论基础。它详细介绍了原子和电子在固体表面上的排列与相互作用,探讨了表面能、表面张力等宏观热力学参数的微观起源。重点阐述了晶体学在描述表面结构中的应用,包括表面重构、缺陷的形成与对表面性能的影响。  界面部分则深入分析了不同物质(如固体/固体、固体/液体、固体/气体)交界面处的物理化学特性。这部分内容涵盖了界面能的计算方法、界面扩散机制以及界面在相变过程中的关键作用。对于理解异质结构、复合材料的性能至关重要。  第二部分:薄膜的制备与表征技术  薄膜作为功能材料的核心载体,其制备工艺直接决定了器件的性能。本部分详尽介绍了当前主流的薄膜沉积技术。这包括物理气相沉积(PVD)方法,如溅射、蒸发技术,并详细剖析了不同参数(如基底温度、腔室压力、靶材功率)对薄膜的晶化度、取向性和表面粗糙度的影响。同时,化学气相沉积(CVD)及其变种,如原子层沉积(ALD),也得到了深入探讨,强调了ALD在实现高精度厚度控制和复杂形貌覆盖方面的独特优势。  在表征方面,本书系统梳理了用于分析表面和薄膜的先进分析技术。重点介绍了电子束技术(如扫描电子显微镜SEM、透射电子显微镜TEM及其衍射模式)、X射线分析技术(如X射线衍射XRD、X射线光电子能谱XPS)在确定薄膜化学成分、晶体结构和形貌特征中的应用。此外,用于研究表面电子态和化学键合的各种光谱学方法,如俄歇电子能谱(AES)和紫外光电子能谱(UPS),也得到了充分的讲解。  第三部分:表面物理与化学过程  这部分深入探讨了发生在固体表面上的关键物理和化学反应。  表面吸附与解吸: 详细分析了气体分子或液体组分在固体表面上的物理吸附(范德华力)和化学吸附(形成化学键)的过程。运用Langmuir、BET等模型描述吸附等温线,并探讨了温度和压力对吸附动力学的影响。这对于理解催化剂活性位点和传感器灵敏度至关重要。  表面反应动力学: 探讨了表面催化反应的机理,包括反应物在表面的活化、中间产物的形成与转化、以及产物的脱附过程。通过引入描述性的势能面图景,阐明了催化剂设计中对结构敏感性的理解。  电子与光子在表面的相互作用: 讨论了电子束、离子束与固体表面碰撞所产生的二次电子、反冲离子等现象,这不仅是表征技术的基础,也是辐射损伤研究的关键。同时,薄膜与光子的相互作用,特别是光学薄膜的电磁场增强效应和等离激元共振,被详细分析。  第四部分:功能薄膜的应用与前沿  本书的最后一部分将理论与实践相结合,聚焦于特定功能薄膜在现代高科技领域中的应用。  半导体与集成电路: 详述了半导体异质结的形成原理,如欧姆接触和肖特基接触的构建,以及栅极氧化层和介电层的制备对晶体管性能的关键影响。  能源材料: 探讨了用于光伏电池(如钙钛矿、CIGS薄膜)和燃料电池(固体氧化物燃料电池的电解质和电极薄膜)的材料设计,强调了界面电荷传输和界面稳定性在提高器件效率中的作用。  磁性与自旋电子学薄膜: 涵盖了铁磁性、反铁磁性薄膜的制备及其在巨磁阻(GMR)和隧道磁阻(TMR)器件中的应用,涉及交换偏置效应和自旋转移矩(STT)等前沿概念。  生物医学材料: 讨论了生物相容性涂层、药物缓释膜以及用于生物传感器的功能化表面设计。  第五版的新增与修订  第五版在继承前几版精髓的基础上,根据近十年来的研究进展进行了大量更新和扩充。特别增加了对二维材料(如石墨烯、过渡金属硫化物)表面物理的探讨,以及机器学习在预测薄膜结构与性能中的初步应用案例。对原子层沉积(ALD)在复杂三维结构制造中的最新进展进行了细化,并更新了原位表征技术的最新进展。  目标读者与价值  本书结构完整,理论深度与应用广度兼备,是固体物理、材料工程、化学物理等领域的研究生、博士后、教师以及从事半导体、光学、催化剂和纳米技术研发的高级工程师和科学家的必备参考书。它不仅是理解现有技术的基石,更是启发未来创新的重要源泉。读者通过研读本书,将能系统掌握从微观结构到宏观功能的转化规律,从而有效地设计和优化基于表面和薄膜技术的下一代产品。