作为一个对科技发展史充满好奇的读者,我一直对“摩尔定律”背后的技术驱动力感到着迷。这本书在叙述制造技术的同时,也隐约勾勒出了半导体技术不断进步的脉络。书中对各种工艺的迭代和创新,比如从最初的氧化、扩散、光刻、刻蚀,到后来引入的离子注入、薄膜沉积等,都展示了人类在微观世界里不断探索和突破的勇气。我读到一些关于工艺节点不断缩小的讨论,以及为了达到这些微小尺寸所付出的巨大努力,比如对设备精度、材料纯度、环境控制的极致追求。这让我深刻体会到,每一次技术飞跃都不是一蹴而就的,而是无数工程师和科学家们长期不懈努力的成果。书中还穿插了一些历史性的技术突破和人物的贡献,虽然不是重点,但能感受到一种宏大的历史进程。这本书不仅仅是技术手册,更像是一部半导体工业的“进化史”,让我对这项改变世界的科技有了更深层次的敬畏。
评分我本来对电子工程学有一些基础,想深入了解一下制造的实际流程,这本书可以说是帮我搭建起了一座从理论到实践的桥梁。书中对于各种沉积和蚀刻技术的描述,非常生动形象。我读到关于化学气相沉积(CVD)的部分,对不同的CVD方法(LPCVD、PECVD等)以及它们各自的适用范围有了清晰的认识,了解了如何通过控制气体流量、温度、压力等参数来获得特定厚度和均匀度的薄膜。而蚀刻过程更是让人惊叹,等离子体蚀刻的原理,如何利用化学反应和物理轰击来精确地去除不需要的材料,而且还要保证侧壁的垂直度,这其中的技术难度简直是登峰造极。书中还提到了湿法蚀刻和干法蚀刻的对比,以及它们在不同场景下的优劣势。这些细节让我感觉自己像是置身于一个繁忙的无尘车间,看着无数的化学反应和物理过程在微观尺度上精密地进行,最终塑造出我们今天所用的各种电子元器件,这种沉浸式的阅读体验让我受益匪浅。
评分我是一名对材料科学颇有兴趣的业余爱好者,一直想了解半导体材料在实际制造过程中是如何被“驯服”的,这本书在这方面给了我极大的满足。书中对硅晶圆的制备过程,从单晶硅的生长到晶圆的抛光,讲解得非常细致。我之前只知道硅是半导体的基础,但没想到要得到一块完美的、没有任何缺陷的硅晶圆,需要经过如此多的步骤,而且每一步都充满了挑战。特别是关于缺陷控制的部分,书中详细介绍了不同类型的缺陷(位错、杂质等)对器件性能的影响,以及如何通过各种工艺手段来减少它们。这让我深刻理解了为什么高端芯片的良品率如此之低,也体会到工程师们在材料纯度和结构完整性上付出的巨大努力。此外,书中还涉及了不同族元素的掺杂过程,以及如何通过掺杂来精确控制材料的导电性能,这让我对半导体器件的 P-N 结形成有了更清晰的理解。总的来说,这本书为我揭示了材料科学在半导体制造中的核心作用,让我对“精密”这两个字有了更深刻的体会。
评分这本《半导体制造技术》真的让我大开眼界!我原本以为半导体制造就像是在实验室里做点小零件,没想到它背后是一整套复杂到令人咋舌的工业体系。书中对光刻环节的描绘尤其让我印象深刻,那种纳米级的精度要求,需要在真空、超净环境中进行,光刻机的复杂程度简直堪比宇宙飞船。我之前看到过一些关于芯片制造的科普文章,但这本书提供的信息要深入得多,它会详细解释不同光刻技术(比如浸润式光刻、EUV光刻)的原理、优缺点,甚至连使用的光源、掩模版、光刻胶的化学成分都有涉猎,真是把我对这个领域的认知提升了好几个档次。而且,书中还提到了对环境的控制,比如洁净室的等级划分,还有对化学品、废弃物的处理,这让我看到了半导体制造不仅仅是技术活,更是一项高度负责任的工业活动。读完这部分,我对那些微小的芯片里蕴含的巨大科技含量和工程挑战有了全新的认识,感觉自己像是窥探到了工业界最神秘的心脏地带,那种震撼感难以言喻。
评分我是一名对集成电路设计流程比较熟悉的人,一直对制造工艺是如何影响设计细节感到好奇。这本书在“互连”和“封装”这两个章节,为我解答了不少疑问。书中详细介绍了多层金属互连技术的演进,从早期单层互连到如今复杂的铜互连和低介电常数材料的使用,每一项技术进步都极大地提高了芯片的性能和集成度。我尤其对金属互连中的“阻容效应”有了更深刻的理解,这解释了为什么在设计中需要考虑线宽、线距以及它们对信号延迟和串扰的影响。而封装技术的部分,则让我看到了芯片从“裸奔”到最终产品形态的转变过程。书中描述了各种封装形式,如DIP、QFP、BGA,以及近年来兴起的3D封装技术,这些都不仅仅是为了保护芯片,更是为了解决散热、信号传输和集成度等方面的挑战。读到这部分,我感觉自己像是看到了设计的“幕后英雄”,那些看似简单的连接和外壳,背后蕴含着多么复杂的设计和制造智慧。
评分书不错 是正版 就是包装太差了 到手了袋子破了进了很多土
评分看着不错,应该是正版
评分还没有读,看上去是泛泛而谈
评分质量还可以。
评分一系列凑单后主要想买的教材最终开心价收入
评分只能说纸张有点薄,不满意。发货速度很快。
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