【官方正版】 半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程 配光盤集成環境電路混閤書籍輔 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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齣版社： 清華大學齣版社

ISBN：9787302354314

商品編碼：27970291849

叢書名： 半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TC

齣版時間：2014-07-01

 

 

基本信息

書名:半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程（配光盤）

：35.00元

作者:唐龍榖 編著

齣版社：清華大學齣版社

齣版日期：2014-7-1

ISBN：9787302354314

字數：373000

頁碼：235

版次：1

裝幀：平裝

開本：16開

商品重量：0.3kg

 

 

編輯推薦

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目錄

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第1章　仿真基礎
　1．1　TCAD
　　1．1．1　數值計算
　　1．1．2　基於物理的計算
　1．2　Silvaco TCAD
　　1．2．1　主要組件
　　1．2．2　目錄結構
　　1．2．3　文件類型
　1．3　Deckbuild
　　1．3．1　Deckbuild Preferences
　　1．3．2　語法格式
　　1．3．3　go
　　1．3．4　set
　　1．3．5　Tonyplot
　　1．3．6　extract
　1．4　學習方法
　思考題與習題
第2章　二維工藝仿真
　2．1　ATHENA概述
　2．2　工藝仿真流程
　　2．2．1　定義網格
　　2．2．2　襯底初始化
　　2．2．3　工藝步驟
　　2．2．4　提取特性
　　2．2．5　結構操作
　　2．2．6　Tonyplot顯示
　2．3　單項工藝
　　2．3．1　離子注入
　　2．3．2　擴散
　　2．3．3　澱積
　　2．3．4　刻蝕
　　2．3．5　外延
　　2．3．6　拋光
　　2．3．7　光刻
　　2．3．8　矽化物
　　2．3．9　電極
　　2．3．10　幫助
　2．4　集成工藝
　2．5　優化
　　2．5．1　優化設置
　　2．5．2　待優化參數
　　2．5．3　優化目標
　　2．5．4　優化結果
　思考題與習題
第3章　二維器件仿真
　3．1　ATLAS概述
　3．2　器件仿真流程
　3．3　定義結構
　　3．3．1　ATLAS生成結構
　　3．3．2　DevEdit生成結構
　　3．3．3　DevEdit編輯已有結構
　3．4　材料參數及模型
　　3．4．1　接觸特性
　　3．4．2　材料特性
　　3．4．3　界麵特性
　　3．4．4　物理模型
　3．5　數值計算方法
　3．6　獲取器件特性
　　3．6．1　直流特性
　　3．6．2　交流小信號特性
　　3．6．3　瞬態特性
　　3．6．4　高級特性
　3．7　圓柱對稱結構
　3．8　器件仿真結果分析
　　3．8．1　實時輸齣
　　3．8．2　日誌文件
　　3．8．3　Deckbuild提取
　　3．8．4　Tonyplot顯示
　　3．8．5　output和probe
　思考題與習題
第4章　器件電路混閤仿真
　4．1　MixedMode概述
　4．2　電路仿真流程
　4．3　MixedMode的語法
　　4．3．1　網錶狀態
　　4．3．2　控製和電路分析狀態
　　4．3．3　瞬態參數
　4．4　電路仿真示例
　　4．4．1　FRD正嚮恢復仿真
　　4．4．2　FRD反嚮恢復仿真
　　4．4．3　PIN二極管的光響應仿真
　4．5　電路仿真結果分析
　　4．5．1　結果輸齣形式
　　4．5．2　結果分析
　思考題與習題
第5章　高級特性
　5．1　C注釋器
　5．2　自定義材料
　　5．2．1　材料類型
　　5．2．2　自定義材料
　5．3　工藝參數校準
　5．4　DBinternal
　　5．4．1　Template文件
　　5．4．2　Experiment文件
　　5．4．3　DBinternal命令
　5．5　VWF
　　5．5．1　DOE
　　5．5．2　優化
　5．6　三維仿真
　　5．6．1　ATLAS3D
　　5．6．2　Tonyplot3D
　　5．6．3　VictoryCell
　思考題與習題
參考文獻

內容提要

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為瞭滿足半導體工藝和器件及其相關領域人員對 計算機仿真知識的需求，幫助其掌握當前先進的計算 機仿真工具，特編寫本書。唐龍榖編著的《半導體工 藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程(附光盤)》 以Silvaco TCAD 2012為背景，由淺入深、循序漸進 地介紹瞭Silvaco TCAD器件仿真基本概念、 Deckbuild集成環境、Tonyplot顯示工具、ATHENA工 藝仿真、ALTAS器件仿真、MixedMode器件電路混閤 仿真以及C注釋器等高級工具。
　　本書內容豐富、層次分明、突齣實用性，注重語 法的學習，例句和配圖非常豐富； 所附光盤含有書 中具有獨立仿真功能的例句的完整程序、教學PPT和 大量學習資料。讀者藉助本書的學習可以實現快速入 門，且能深入理解TCAD的應用。
　　本書既可以作為高等學校微電子或電子科學與技 術專業高年級本科生和研究生的教材，也可供相關專 業的工程技術人員學習和參考。

文摘

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作者介紹

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現代半導體設計與製造的基石 隨著電子技術的飛速發展，半導體器件已成為現代科技的支柱。從智能手機到高性能計算，從汽車電子到物聯網設備，無處不見它們的身影。而在這個精密而復雜的領域，半導體工藝和器件仿真軟件扮演著至關重要的角色。它不僅僅是一種工具，更是推動技術進步、加速産品迭代、降低研發成本的關鍵。 精準預見，優化創新 想象一下，在實際製造齣數百萬甚至數十億個晶體管之前，我們就能通過軟件模擬齣它們的性能錶現。這就是半導體工藝和器件仿真軟件的魔力所在。它能夠精確地模擬晶體管在各種工藝步驟下的行為，預測其電學特性、可靠性以及在不同工作條件下的錶現。這使得工程師能夠在設計階段就發現潛在的問題，優化器件結構和工藝參數，從而顯著縮短研發周期，避免昂貴的物理原型測試，並最終生産齣性能更優、更可靠的半導體産品。 理解微觀世界的奧秘 半導體器件的性能高度依賴於其微觀結構和材料特性。仿真軟件能夠深入到原子和分子的層麵，揭示載流子在半導體材料中的傳輸機製，研究摻雜、擴散、離子注入等工藝對器件特性的影響。通過可視化和詳細的參數分析，工程師可以直觀地理解復雜的物理現象，如量子效應、錶麵陷阱、漏電流等，並據此進行有針對性的設計和改進。這種對微觀世界的深刻洞察，是實現下一代高性能、低功耗半導體器件的關鍵。 跨越工藝挑戰，駕馭前沿技術 半導體製造工藝日新月異，從傳統的CMOS技術到FinFET、GAA等三維結構，再到新的材料和製造技術，每一步都充滿瞭挑戰。仿真軟件能夠幫助工程師應對這些挑戰。它能夠模擬新的工藝流程，預測其對器件性能的影響，為工藝開發和優化提供強有力的支持。例如，在開發新的柵極材料或高介電常數（High-k）柵介質時，仿真軟件可以幫助工程師評估其電學性能，預測漏電流和閾值電壓漂移等問題，指導材料的選擇和工藝的改進。 從器件到係統，構建完整設計流程 半導體器件的仿真並非孤立存在，它與電路設計、係統集成緊密相連。許多先進的仿真軟件提供瞭從器件級到電路級的仿真能力，甚至可以與特定的EDA（電子設計自動化）工具集成，形成完整的半導體設計流程。這意味著工程師不僅可以仿真單個晶體管的性能，還可以將其集成到復雜的電路中，模擬整個芯片的功能和性能。這種端到端的仿真能力，大大提高瞭設計的效率和準確性。 麵嚮未來，賦能創新 隨著摩爾定律的持續挑戰以及新興應用（如人工智能、5G通信、自動駕駛）對半導體器件提齣更高要求，對仿真技術的需求也日益增長。更強大的計算能力、更先進的物理模型、更易用的用戶界麵，以及對新興材料和器件結構的支持，將是未來半導體仿真軟件的發展方嚮。這些軟件將繼續扮演關鍵角色，賦能工程師們探索新的設計空間，創造齣更具革命性的半導體産品，從而驅動整個科技社會的進步。 對於希望深入瞭解半導體器件原理、掌握先進設計方法、提升芯片研發能力的工程師、研究人員和學生而言，精通半導體工藝和器件仿真軟件是必不可少的一項技能。它不僅是解決當前技術難題的利器，更是開啓未來半導體技術新篇章的金鑰匙。

評分☆☆☆☆☆

這本書真的太棒瞭，內容豐富，講解深入淺齣。我一直對半導體技術充滿好奇，但苦於找不到閤適的入門書籍。這本《半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程》正好滿足瞭我的需求。書中從最基礎的概念講起，逐步深入到復雜的工藝和器件模型。作者的講解非常清晰，結閤大量的圖示和實例，讓我這個初學者也能輕鬆理解。尤其讓我印象深刻的是，書中不僅介紹瞭TCAD軟件的使用方法，還詳細解釋瞭背後的物理原理，這對於我理解半導體的工作機製至關重要。我曾經嘗試過閱讀一些其他關於半導體技術的書籍，但往往因為概念太抽象，或者數學公式太多而望而卻步。這本書在這方麵做得非常好，它在保證科學性的同時，又盡可能地降低瞭閱讀門檻，讓我能夠一步步地掌握知識。而且，書中的光盤也提供瞭集成開發環境，這對於我進行實際操作非常有幫助，我可以直接跟著書中的例子進行練習，加深理解。這本書不僅僅是一本教程，更像是一位經驗豐富的導師，在我學習半導體技術的道路上給予瞭我極大的指引。我相信，這本書對於所有對半導體工藝和器件仿真感興趣的朋友都會有很大的幫助。

評分☆☆☆☆☆

這本書真是太驚喜瞭！我是一名正在攻讀半導體相關專業的研究生，平時的工作和學習都離不開TCAD仿真。之前也用過一些國內外的TCAD教程，但總覺得不夠係統，或者在某些關鍵技術點上講解得不夠透徹。這本《半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程》讓我眼前一亮。它對Silvaco TCAD的介紹非常全麵，從軟件的安裝配置到各個模塊的功能詳解，再到各種復雜的仿真設置，都做瞭詳盡的闡述。我尤其欣賞書中關於各種物理模型的選擇和參數設置的講解，這些往往是影響仿真結果準確性的關鍵。作者用大量的圖錶和數據來支撐自己的觀點，使得講解更具說服力。而且，這本書的邏輯結構非常清晰，從基礎的工藝流程到復雜的器件模型，層層遞進，非常適閤作為進階學習的教材。最重要的是，書中的光盤提供瞭完整的集成環境，這讓我可以立即開始實踐，而無需擔心軟件環境的搭建問題。通過這本書的學習，我的TCAD仿真能力得到瞭顯著提升，解決瞭一些睏擾我很久的仿真難題。

評分☆☆☆☆☆

說實話，我剛拿到這本書的時候，並沒有抱太大的期望，想著市麵上關於TCAD的書籍很多，可能都大同小異。但是，當我翻開第一頁，就被它嚴謹的邏輯和生動的例子吸引住瞭。這本書最大的亮點在於它的實操性。它不僅僅是理論的堆砌，更注重如何將理論應用到實踐中。作者詳細地介紹瞭Silvaco TCAD這款強大的仿真軟件的各個模塊，包括工藝仿真、器件仿真以及版圖設計等。書中給齣的案例非常貼閤實際的研發需求，每一個步驟都講解得非常細緻，即使是對於初次接觸TCAD軟件的用戶，也能很快上手。我印象最深刻的是書中關於 MOSFET 器件的仿真部分，作者通過一步步的參數設置和結果分析，展示瞭如何精確地預測器件的電學特性，這對於器件設計和優化非常有指導意義。此外，書中還穿插瞭一些關於 TCAD 仿真技術發展趨勢的討論，讓我對這個領域有瞭更宏觀的認識。總而言之，這本書是一本不可多得的實用技術書籍，它能夠幫助讀者快速掌握半導體工藝和器件仿真技術，並將其應用於實際工作中。

評分☆☆☆☆☆

這本書的價值遠超我的預期！作為一個在半導體行業摸爬滾打多年的工程師，我一直都在尋找一本能夠係統性地梳理TCAD仿真流程，並且能夠解決實際工程問題的參考書。這本《半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程》恰恰滿足瞭我的需求。書中的內容非常貼閤工業界的實際應用，它不僅介紹瞭TCAD軟件的理論知識，更重要的是，它詳細地講解瞭如何在實際的工藝開發和器件設計中運用TCAD工具。我特彆喜歡書中關於工藝偏差分析和良率預測的部分，這些內容對於提高産品性能和降低生産成本至關重要。作者在書中分享瞭許多寶貴的工程經驗和技巧，讓我受益匪淺。另外，這本書的排版設計也非常人性化，文字清晰，圖示直觀，閱讀起來非常舒適。總而言之，這是一本集理論、實踐、經驗於一體的優秀技術書籍，對於半導體行業的從業者來說，絕對是值得珍藏的工具書。

評分☆☆☆☆☆

一直以來，我對半導體器件的微觀世界充滿瞭好奇，但很多書籍的講解都過於晦澀難懂。直到我遇到瞭這本《半導體工藝和器件仿真軟件Silvaco TCAD實用教程》，纔真正找到瞭通往這個神奇世界的鑰匙。這本書以一種非常友好的方式，嚮我展示瞭半導體工藝和器件仿真的魅力。從基礎的半導體物理概念，到復雜的器件結構設計，再到最終的性能仿真，作者都用生動形象的比喻和清晰易懂的語言進行瞭闡述。我尤其喜歡書中關於如何用TCAD軟件模擬各種器件特性的章節，這些模擬結果讓我能夠直觀地看到不同參數對器件性能的影響，從而加深瞭我對半導體物理原理的理解。書中的光盤也提供瞭便利，讓我可以在自己的電腦上進行各種模擬實驗，就像在實驗室裏進行真實實驗一樣。這本書不僅滿足瞭我對知識的渴望，更激發瞭我進一步探索半導體領域的興趣。對於任何想要瞭解半導體技術，或者希望通過仿真來學習和研究半導體器件的朋友來說，這本書都是一個絕佳的選擇。